1、2020 年深度行业分析研究报告正文目录1. 清洗是前道制程中的重要环节31.1. 清洗应用在制程多环节31.2. 清洗方法：干法与湿法、单片与槽式41.3. 清洗步骤需要不断重复去除沾污72. 全球清洗设备日系占据主导地位，国产设备奋起直追72.1. 2021 年全球半导体清洗设备市场规模约为 32 亿美元82.2. 全球市场格局日系占据主导地位92.3. 大基金二期已起航，“卡脖子”设备环节有望获得重点投资93. 国内重点公司113.1. 盛美股份国内清洗设备领先企业，子公司将回归科创板113.2. 北方华创综合实力强劲的半导体设备供应商133.3. 至纯科技高纯工艺龙头，半导体清洗设备后
2、起之秀153.4. 沈阳芯源微涂胶显影领先企业向清洗设备进军17图目录图 1清洗步骤贯穿3图 2槽式清洗设备原理6图 3单片清洗设备原理6图 4半导体干法针对不同的沾污有不同的清洗方式7图 5盛美半导体收入规模12图 6盛美半导体净利润规模12图 7北方华创清洗设备相关产品系列15图 8北方华创收入规模14图 9北方华创净利润规模14图 10 至纯科技收入规模16图 11 至纯科技归母净利润规模16图 12 (楷体五号字)18图 13 芯源微收入规模18图 14 芯源微净利润规模18 表目录表 1 硅片在加工过程中会产生诸多沾污，如不清洗会影响后续加工工艺4表 2 不同的药液适用于不同的物质种
3、类4表 3 主要清洗方法对比，目前仍以湿法为主5表 4 各种清洗设备清洗方法和适用场合5表 5 通常半导体制程中的清洗步骤及目的：贯穿多环节、需清洗多种沾污7表 6 2019 年全球半导体设备支出略微下降（亿美元）8表 7 盛美半导体近年部分中标情况13表 8 至纯科技近年部分湿法清洗设备中标情况171.清洗是前道制程中的重要环节、应用于多环节1.1.清洗应用在制程多环节图 1清洗步骤贯穿硅片的加工过程对洁净度要求非常高，所有与硅片接触的媒介都可能对硅片造成 污染,硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响，因此几乎每一步加工都需要清除沾 污，具体来看包括：1）硅片制造环节的材料清洗、抛光后清洗；2
4、）晶圆制造环节的 扩散前清洗、刻蚀后清洗、离子注入后清洗、去胶清洗、成膜前后清洗、机械抛光后 清洗等；2）芯片封装 TSV 清洗、UBM/RDL 清洗、键合清洗等。资料来源：盛美，具体的沾污包括颗粒、有机物、金属和自然氧化层等等，这些沾污包括从环境、 其他制造工艺、刻蚀副产物、研磨液等等，这些沾污如不及时清理均可能造成后续制 造工艺的失败，造成器件的电性失效。表 1 硅片在加工过程中会产生诸多沾污，如不清洗会影响后续加工工艺物质种类来源主要危害颗粒环境，其他工艺过程中产生影响后续光刻、干法刻蚀工艺，造成器件短路自然氧化层环境影响后续氧化、沉积工艺，造成器件电性失效金属污染环境，其他工艺过程中产
5、生影响后续氧化工艺，造成器件电性失效有机物干法刻蚀副产物，环境影响后续沉积工艺，造成器件电性失效牺牲层氧化/沉积工艺影响后续特定工艺，造成器件电性失效抛光残留物研磨液影响后续特定工艺，造成器件电性失效资料来源：集成电路产业全书，现阶段关键技术节点已小于 28nm，对于晶圆表面污染物控制的指标越来越高， 因此清洗过程贯穿芯片制造的全程，包括硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等各个关键工 艺环节中，目前清洗设备在晶圆制造设备中的采购费用占比约 4.8%。表 2 不同的药液适用于不同的物质种类清洗作用化学药液SPMSC1SC2DHFBHFDIO3H3 PO4HF+HNO3TMAH溶剂类物质种类颗粒适合适合-
6、适合-自然氧化层-适合适合-金属污染-适合适合适合-有机物适合适合-适合-适合适合牺牲层-适合适合-适合适合适合-抛光残留物适合适合-适合适合-资料来源：集成电路产业全书，1.2.清洗方法：干法与湿法、单片与槽式从清洗的半导体清洗方式有湿法和干法两种： 1）湿法清洗采用特定的化学药液和去离子水对晶圆表面进行无损伤清洗，是目前主流的清洗方式、占整个清洗制程的 90%以上，主要包括 RCA 清洗法、超声清洗等，湿法清洗具有效率高、成本较低等优势，但同时由于化学试剂使用多，会造成化学污 染、交叉污染、晶片损伤等。2）干法清洗包括气相清洗法、紫外-臭氧清洗法等，优点在于化学用量少、清 洗环境友好、低磨
7、损等等，不断受到市场更多关注，但同时缺点同样明显，如部分沾 污不易清洗、成本较高、控制要求高等，目前无法大量应用于半导体生产中，但在半 导体产线上的少量特定步骤会采用干洗清洗方法，共同构建清洗方案。表 3 主要清洗方法对比，目前仍以湿法为主清洗方法描述优点缺点湿 法 清 洗去除晶片表面污染物薄膜而不能去RCA 清洗使用双氧水与酸/碱溶液的混在清除晶片表面的有机物、粒子和除颗粒；需在高温环境下进行；耗法合物进行两步氧化。金属等污染物时十分有效。用化学品大，会加大硅片的粗糙度；排放量大污染环境。超声清洗 方法晶片浸没在清洗液中,利用超高频率的声波能量将晶片正 面和背面的颗粒有效去除。清洗的速度快;
8、清洗的效果比较好;能够清洗各种复杂形状的硅片表面; 易于实现遥控和自动化。颗粒尺寸较小时,清洗效果不佳;在空穴泡爆破的时候,巨大的能量会 对硅片造成一定的损伤。干 法 清 洗先让片子低速旋转,再加大速对那些结构较深的部分,比如沟槽,气相清洗度使片子干燥,这时,HF 蒸汽能够进行有效的清洗；对硅片表面虽然 HF 蒸汽可除去自然氧化物,但法可以很好的去除氧化膜玷污粒子的清洗效果也比较好,并且不会不能有效除去金属污染。及金属污染物。产生二次污染。将晶片放置在氧气氛围中用紫外-臭特别适合氧化去除有机物，另外还汞灯产生的短波长紫外光进无法清洗一般的无机物沾污。氧清洗法有某些特殊用途,如 GaAs 的清洗
9、。行照射。资料来源：中国产业信息网，针对不同的污染物特性，需要选择不同的化学药液进行清洗、配合物理方式辅助： 1）SPM 主要用于清洗有机物，是硫酸、过氧化氢和去离子水的混合物；2）SC1 主要 用于清洗颗粒，是氨水、过氧化氢和去离子水的混合物，；3）SC2 主要用于清洗金属 污染物，是盐酸、过氧化氢和去离子水的混合物等等。1.2.1.湿法清洗占据主流，设备主要包括槽式和单片清洗设备目前晶圆清洗设备在晶圆制造设备中的采购费用占比约为 6%，重要的清洗设备 主要有单片晶圆清洗设备、槽式晶圆清洗设备、洗刷机等。表 4 各种清洗设备清洗方法和适用场合设备清洗方法适用场合单晶圆清洗设备旋转喷淋全生产流
10、程中，比如扩散前清洗、栅极氧化前清洗、外延前清洗、CVD 前清洗、氧化前清洗、光刻胶清除、多晶硅清除和刻蚀环节等槽式清洗设备溶液浸泡全生产流程中洗刷设备旋转喷淋锯晶圆、晶圆磨薄、晶圆抛光、研磨、CVD超音波清洗设备超声清洗半导体前道各阶段晶圆盒清洗设备机械擦拭晶圆盒清洗等离子体清洗设备等离子体清洗光刻胶去除资料来源：中国产业信息网，槽式晶圆清洗设备是在一个处理仓中，同时清洗多盒晶圆，可以做到晶圆干进 干出，主要包括传输模块、晶圆装载/卸载传输模块、排风进气模块、化学药液槽体 模块和控制模块构成。槽式晶圆清洗设备的优点在于可以进行批量清洗、效率高，成本较低，但同时缺 点同样明显，如槽体内部化学药
11、液多样、与晶圆接触点过多等，容易造成二次污染。 45nm 制程到来后，先进制程工艺的湿法清洗对晶圆表面小颗粒的数量及刻蚀的均匀 性要求越来越高，同时必须达到图形无损干燥，槽式清洗越来越达不到工艺需求，因 而逐渐被单片清洗设备代替。槽式清洗设备价格约为 200-300 万美元，主要企业有日本的迪恩士、东京电子和 JET 等，三者合计约占 75%以上的市场份额，这些企业的设备价格相对也会更高。韩 国的 SEMES 和 KCTECH 主要供给韩国市场。图 2槽式清洗设备原理图 3单片清洗设备原理资料来源：盛美，资料来源：盛美，单片清洗设备是基于传统的 RCA 清洗方法设计的，已经广泛应用于集成电路制
12、 造前道（FEOL）和后道（BEOL）工艺过程，包括成膜前后的清洗、等离子体刻蚀后的清洗、离子注入后的清洗、化学机械抛光后的清洗和金属沉积后清洗等，可以说除了 高温磷酸工艺外，单片清洗设备已经基本上可以兼容所有的清洗工艺。单片清洗设备市场同样集中度非常高，DNS、TEL、LAM 和 SEMES 四家公司合计市 场占有率超过 90%，其中 DNS 市占率在 40%以上，是行业绝对的龙头。目前随着清洗工艺的提升，除了传统的旋转喷淋法外，还有纳米喷射清洗和兆 声波清洗等两种常见的方法：1）纳米喷射是在二流体雾化喷嘴的两端分别通入液体 介质和高纯氮气，使用高压气体为动力，辅助液体微雾化成极微小的液体粒
13、子，并喷射至晶圆表面，达到去除颗粒的效果；2）兆声波由发生器产生，传递到清洗液体中， 然后对晶圆进行清洗，能够降低化学药液的用量、减少对晶圆的损伤。兆声波清洗能 够非常有效地去除颗粒，尤其是小尺寸颗粒，另外在高深宽比的图形表面清洗同样具 有优势、特别是在 TSV 结构的清洗中。因此为了更好的去除晶圆表面的沾污，除槽式 和单片单片晶圆清洗设备外，还有晶圆刷洗设备、超声/兆声清洗设备、晶圆盒清洗 设备等。1.2.2.干法清洗受到关注，可与湿法清洗配合使用干法清洗采用的是气相化学法去除晶圆表面的沾污，主要有热氧化法和等离子清 洗法等。干法清洗过程通常是将热化学气体或者等离子态反应气体导入反应室，反应
14、 气体与晶圆表面发生化学反应生成易挥发性反应产物被真空抽去，针对不同的沾污种 类有不同的干洗方法，如颗粒物可以用低温气雾剂、激光等，有机物可以用臭氧、紫 外线/臭氧、细微等离子等。图 4半导体干法针对不同的沾污有不同的清洗方式颗粒有机物金属原生氧化物/化学氧化物低温气雾剂Ar/N2O2 退火CI基化学法退火Ar 喷溅激光臭氧NO/HCI/N2退火H2 退火CO2 雪紫外线/臭氧 紫外线/O2紫外线/CI2紫外线/SiCI4 紫外线/HCI细微等离子H2细微等离子O2细微等离子NF2/H2AHF/H2OAHF/酒精溶液UV/F2/H2资料来源：中国产业信息网，等离子清洗采用激光、微波、热电离等措
15、施将无机气体激发到等离子态活性离子， 活性粒子与表面分子反应生成产物分子，产物分子进一步解析形成气相残余物脱离表 面。干法清洗的优点在于清洗后无药液残留，同时可以进行选择性的局部清洗；缺点 在于无法有选择性的仅与表面金属污染物反应，会不可避免的与硅片表面发生反应， 所以在一定温度、时间等条件下，不能将所有金属沾污完全去除，因而目前干法清洗 尚无法完全取代湿法清洗。实验表明干法清洗可按要求的标准减少的金属化沾污有铁、 铜、铝、锌、镍等，实际制造工艺中通常采用湿法、干法清洗相结合的清洗方法。1.3.清洗步骤需要不断重复去除沾污通常在晶圆制造工艺中需要五个环节的清洗步骤，即晶圆颗粒去除清洗、刻蚀后
16、清洗、预扩散清洗、金属离子去除清洗、薄膜去除清洗等，需要说明的是，由于前道 制程很多步骤需要重复多次，清洗过程同样需要不断重复去除沾污，同时随着先进制 程的复杂程度越来越高，清洗难度和次数也不断提高。表 5 通常半导体制程中的清洗步骤及目的：贯穿多环节、需清洗多种沾污清洗步骤目的颗粒去除清洗使用化学药剂或使用超声波、兆声波清洗去除晶圆表面颗粒刻蚀后清洗去除晶圆刻蚀过程后留下的光刻胶和聚合物预扩散清洗为创建一个没有金属、微粒和有机污染物的晶圆表面，需要去除自然氧化或化学氧化物金属离子去除清洗消除可能对器件操作产生不利影响的金属离子薄膜去除清洗氧化硅蚀刻/剥离、氧化物蚀刻/剥离、硅蚀刻和金属蚀刻/
17、剥离资料来源：中国产业信息网，2.全球清洗设备日系占据主导地位，国产设备奋起直追2.1.2021 年全球半导体清洗设备市场规模约为 32 亿美元在半导体设备市场中，晶圆制造设备采购大约占整体的 80%，测试设备大约占 9%，封装设备大约占 7%，其他设备大约占 4%；同时清洗设备在晶圆制造设备中的采 购费用占比约为 6%，因此可以计算清洗设备约占半导体设备投资的 4.8%。2020 年 4 月，国际半导体产业协会 SEMI 报告指出，2019 年全球半导体制造设备 销售额达到 598 亿美元，比 2018 年的 645 亿美元的历史高点下降了 7，其中中国 台湾是去年半导体设备最大的市场，同比
18、增长 68%达到 171.2 亿美元；中国大陆同比 略增 3%至 134.5 亿美元，来到全球第二；第三至第五位分别为韩国、北美、日本， 市场规模分别为 99.7、81.5、62.7 亿美元。表 6 2019 年全球半导体设备支出略微下降（亿美元）国家/地区20192018变化幅度中国台湾171.2101.768%中国大陆134.5131.13%韩国99.7177.1-44%北美81.558.340%日本62.794.7-34%其他25.240.4-38%欧洲22.742.2-46%合计597.5645.3-7%资料来源：SEMI，此前 SEMI 预计 2020 年全球半导体设备销售额将达到
19、608 亿美元，其中中国台湾 将维持全球第一大设备市场的位置，销售金额将达 154 亿美元，中国大陆以 149 亿美元居次，韩国则以 103 亿美元排名第三。而在 2021 年全球半导体设备销售额将创下668 亿美元的历史新高，展望 2021 年，中国大陆将以 160 亿美元的销售额跃升至全 球第一大设备市场。假设清洗设备晶占圆制造设备的比重稳定，即为 4.8%，则根据以上数据粗略计 算出全球半导体清洗设备 2019-2021 年的市场规模分别约为 28.68、29.18、32.06 亿美元。未来半导体清洗设备行业增长的驱动力包括三部分： 一方面是随着工艺的不断升级、制造流程增多，清洗频率也将
20、有所增加，清洗设备的需求量将不断提升；二是集成电路制造工艺升级，芯片结构越发复杂、清洗难度升级，如 3D 结构（例如 FinFET 晶体管）通常比旧的传统 2D 结构更脆弱，需要在对芯片无伤情况下对 内部结构进行清洗；三是集成电路新型材料的出现，也对清洗工艺提出了新的需求。 从清洗设备的配备数量来看，通常 4 万片产能的产线上，8 英寸线需要配备 50台左右、12 英寸线需要 70 台左右，国外部分厂商可以达到 120 台的配备，包括槽式晶圆清洗设备和单片晶圆清洗设备。价格方面，6-8 个腔体的单片晶圆清洗设备价格 在 300-400 万美元/台，槽式价格要低不少，大概在 100-200 万美
21、元/台。2.2.全球市场格局日系占据主导地位全球清洗设备市场中，日系企业占据绝对的主导地位，迪恩士（DNS，SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd. ） 市场份额大约为 60%、 东京电子（ Tokyo Electron）大约为 30%，其他企业如美国 Lam Research、韩国 SEMES 和 KCTECH 等， 后二者主要供给韩国市场。目前国内市场格局与全球市场格局相近，主要为国内企业占据，国内企业主要从 事半导体清洗设备的公司主要有盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源微等，整体 来看，国内企业规模和产品竞争力与国际知名企业仍然存在较大差距，如国
22、外单片晶 圆清洗设备已发展到 12 个、16 个腔体、对应的附属设备的介质供应也越多，可满足 智能化、软件控制、压力均等和清洗后的存放等需求，而国产湿法清洗设备从种类和 功能上目前能实现的部分较为有限。但我们认为进口替代之势正在加速，未来国内清 洗设备企业有望快速成长。2.3.大基金二期已起航，“卡脖子”设备环节有望获得重点投资2014 年 6 月国务院颁布集成电路产业发展推进纲要，根据此文，我国集成电路产业 2020 年要达到与国际先进水平的差距逐步缩小、企业可持续发展能力大幅增强的发展目标，到 2030 年，我国集成电路产业链主要环节达到国际先进水平，一批 企业进入国际第一梯队。同年 9
23、月国家集成电路产业基金成立，总规模 1387 亿元，至 2018 年 5 月已经投资完毕，公开投资公司为 23 家，未公开投资公司为 29 家，累计有效投资项目达到70 个左右，引导带动社会融资新增达到 5000 亿元左右。表 9 国家大基金一期投资领域分布情况：设备占比较小领域金额（亿元）占比设计205.919.70%制造500.1447.80%封测115.5211%设备12.851.20%材料14.151.40%产业生态198.5819%资料来源：投资界，表 10 大基金在半导体设备领域投资主要集中在部分龙头企业行业公司时间出资金额（估算，亿元）持股比例设备中微公司2014.124.87.
24、14%设备长川科技2015.70.48%设备沈阳荆拓2015.121.7/设备北方华创201.5.1267.50%设备盛美半导体/0.1/设备万业企业2018.76.87%设备睿励仪器/资料来源：投资界，2019 年 10 月 22 日国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司（简称“国家大基金二期”）注册成立，注册资本 2041.5 亿元，两倍于一期的注册资本，按照 13 的撬动比，所撬动的社会资金规模在 6000 亿元左右。国家大基金二期共有 27 位股东，第一大股东为财政部，出资 225 亿元占股 11.02%，其余几家分别为国开金融有限责任公司（10.78%）、浙江富浙集成电路产业 发展
25、有限公司（7.35%）、上海国盛（集团）有限公司（7.35%）、中国烟草总公司（7.35%）、重庆战略性新兴产业股权投资基金合伙企业（有限合伙）（7.35%）、成都 天府国集投资有限公司（7.35%）和武汉光谷金融控股集团有限公司（7.35%）。表 11 大基金二期规模超过 2000 亿元，预计能撬动社会资金规模 6000 亿元左右出资人持股比例认缴金额/亿元中华人民共和国财政部11.02%225国开金融有限责任公司10.78%220浙江富浙集成电路产业发展有限公司7.35%150上海国盛（集团）有限公司7.35%150中国烟草总公司7.35%150重庆战略性新兴产业股权投资基金合伙企业7.3
26、5%150成都天府国集投资有限公司7.35%150武汉光谷金融控股集团有限公司7.35%150资料来源：新浪财经，在 2019 年 9 月中国(上海)集成电路创新峰会上，国家大基金表示未来投资布局 方向主要有三，如下表所示，可见在大基金一期完成产业布局后，二期将重点支持龙 头企业做大做强、产业聚集以及下游应用，其中对刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清 洗设备等领域已布局的企业保持高强度的持续支持，加快开展光刻机、化学机械研磨 设备等核心设备以及关键零部件的投资布局等措施都将很大程度上利好国内半导体设 备龙头企业。据新浪财经报道，国家大基金二期三月底开始实质投资。表 12 大基金二期将重点支持龙头企
27、业做大做强、产业聚集以及下游应用等方向方向说明一、支持龙头首期基金主要完成产业布局，二期基金将对在刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清洗设备等领域已布局的企企业做大做业保持高强度的持续支持，推动龙头企业做大最强，形成系列化、成套化装备产品。对照纲要继续填强，提升成线补空白，加快开展光刻机、化学机械研磨设备等核心设备以及关键零部件的投资布局，保障产业链安全。能力二、产业聚推动建立专属的集成电路装备产业园区，吸引装备零部件企业集中投资设立研发中心或产业化基地，实现集，抱团发产业资源和人才的聚集，加强上下游联系交流，提升研发和产业化配套能力，形成产业聚集的合力。积极展，组团出海推动国内外资源整合、重组，壮
28、大骨干企业，培育中国大陆“应用材料”或“东电电子”的企业苗子。三、继续推进充分发挥基金在全产业链布局的优势，持续推进装备与集成电路制造、封测企业的协同，加强基金所投企国产装备材料业间的上下游结合，加速装备从验证到“批量采购”的过程，为本土装备材料企业争取更多的市场机会。的下游应用督促制造企业提高国产装备验证及采购比例，为更多国产设备材料提供工艺验证条件，扩大采购规模。资料来源：新浪财经，3.国内重点公司目前中国市场和国际市场范围内，主要的湿法设备厂商以日本和欧美为主，国 内企业正奋起直追但占比仍较低，预计合计不超过 10%，目前在湿法清洗工艺设备供 应商包括盛美半导体、北方华创、至纯科技、芯源
29、微等，未来湿法工艺设备的挑战和机会都很大。3.1.盛美股份国内清洗设备领先企业，子公司将回归科创 板盛美半导体在 1998 年成立于美国硅谷，由国家千人专家王晖博士为代表的清华 校友所创立，2006 年 9 月与上海市政府合资成立了盛美半导体设备（上海）有限公 司，落户张江高科技园区，主要产品包括兆声波单片清洗设备（SAPS、TEBO 等技术）、 槽式清洗设备、单片槽式组合清洗设备、背面清洗设备、无应力抛铜设备、TSV 深孔 清洗设备、干法刻蚀设备、涂胶机、显影机、去胶机、腐蚀机、薄片清洗机等。2015 年盛美半导体的兆声波硅通孔清洗设备进入超大规模集成电路晶圆生产线量产；2015 年 12
30、英寸 45 纳米半导体单片晶圆清洗设备启运韩国知名存储器厂商海力士，是国内首台具有自主知识产权的高端 12 英寸半导体设备，打破了国产设备在 海外销售的零记录。公司其他客户包括晶圆制造领域的华虹集团、长江存储、中芯国 际、合肥长鑫等；先进封装领域的长电科技、通富微电、中芯长电、Nepes 等；半导 体硅片制造及回收领域的上海新昇、金瑞泓、台湾合晶科技、台湾昇阳等。80,000.0070,000.0060,000.0050,000.0040,000.00 75,673.3055,026.91,358.73140.00120.00100.0080.0060.0016,000.0014,000.00
31、12,000.0010,000.008,000.0013,488.73800.00700.00600.00500.00400.009,253.041,086.06图 5盛美半导体收入规模图 6盛美半导体净利润规模30,000.00256,000.00300.0020,000.0040.004,000.00200.0010,000.0020.002,000.00100.000.0020.000.0020.00营业总收入（万元，左轴）同比(%，右轴)归母净利润（万元，左轴）同比(%，右轴)资料来源：Wind，资料来源：Wind，2019 年 6 月盛美表
32、示，未来三年盛美半导体将设法使其主要运营子公司上海盛 美半导体在科创板上市，2020 年 6 月 1 日，盛美股份科创板 IPO 申请正式获上交所 受理。根据盛美股份（盛美半导体子公司，拟报科创板）公告，2017-2019 年盛美股份 收入分别为 2.54、5.5、7.57 亿元，CAGR 为 72.4%；归母净利润分别为 1086、9253、 13489 万元，CAGR 为 252.4%。毛利率方面，2019 年公司毛利率 45.14%、净利率17.82%，处于较高水平。表 7 盛美半导体近年部分中标情况中标时间项目名称招标范围招标人2020/4/21铝线及通孔清洗设备（后段工艺）铝线及通孔
33、清洗设备（后段工艺）华虹半导体（无锡）有限公司2020/3/23长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 38 批）长江存储科技有限责任公司2020/1/19机械研磨后清洗设备采购机械研磨后清洗设备上海华力集成电路制造有限公司2020/1/13长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 36 批）长江存储科技有限责任公司2020/1/13长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 36 批）长江存储科技有限责任公司2019/12/30长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 32 批）长江存储科技有限责任公司2019/12/30长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 30 批
34、）长江存储科技有限责任公司2019/10/22刷片清洗设备（后端铜工艺）/Scrubber/BevelClean (CU)采购刷片清洗设备（后端铜工艺）上海华力集成电路制造有限公司2019/9/17刷片清洗设备（后端铜工艺）采购刷片清洗设备（后端铜工艺）上海华力集成电路制造有限公司2019/8/6炉前清洗设备炉前清洗设备华虹半导体（无锡）有限公司2019/7/1长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 25 批）长江存储科技有限责任公司2019/6/24背面清洗设备采购采购一台背面清洗设备上海华力微电子有限公司2019/4/2湿法清洗设备湿法清洗设备上海华虹宏力半导体制造有限公司2019/
35、4/1长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 24 批）长江存储科技有限责任公司2019/3/21长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 21 批）长江存储科技有限责任公司2019/3/19背面清洗设备背面清洗设备华虹半导体（无锡）有限公司2018/9/17长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 15 批）长江存储科技有限责任公司2018/9/17长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 15 批）长江存储科技有限责任公司2018/5/14福建省晋华集成电路有限公司存储器生产线建设项目福建省晋华集成电路有限公司2018/4/18铝刻蚀后清洗及机械研磨后清洗设备铝刻蚀后清洗
36、及机械研磨后清洗设备上海华力集成电路制造有限公司2018/3/30长江存储科技有限责任公司国际设备采购项目（第 15 批）长江存储科技有限责任公司资料来源：中国国际招标网，3.2.北方华创综合实力强劲的半导体设备供应商北方华创主营半导体装备、真空装备、新能源锂电装备及精密元器件业务，为半 导体、新能源、新材料等领域提供解决方案，以生产销售高端集成电路装备为主，重 点发展刻蚀设备（Etch）、物理气相沉积设备（PVD）和化学气相沉积设备（CVD）三大类设备，广泛应用于集成电路制造、先进封装、半导体照明(LED)、微机电系统（MEMS）等领域。半导体清洗设备方面，北方华创可提供多种类型的单片清洗设
37、备和槽式清洗设备， 已广泛应用于集成电路、半导体照明、先进封装、微机电系统、电力电子、化合物和 功率器件等领域。2019 年北方华创实现收入和归母净利润分别为 40.58、3.09 亿元，分别同比增 长 22.1%、32.2%，2020 年一季度收入和净利润分别为 9.38、0.26 亿元，分别同比 增长 32.49%、33.01%，延续高增长态势。图 7北方华创收入规模图 8北方华创净利润规模45.0040.0035.0030.0025.0020.0015.0010.005.000.0060.0050.0040.0030.0020.0010.000.00-10.00-20.00营业总收入（亿
38、元，左轴）同比(%，右轴) 3.503.002.502.001.501.000.500.00100.0080.0060.0040.0020.000.00-20.00-40.00-60.00-80.00归母净利润（亿元，左轴）同比(%，右轴)资料来源：Wind，资料来源：Wind，图 9北方华创清洗设备相关产品系列清洗设备系列描述应用领域适用工艺产品优势Saqua系列 SC3000A 12英寸单片清洗机在集成电路制造工序中，如成膜、CMP和 刻蚀等工序前 后，晶圆表面存在上一道工序所遗留的超微细颗粒物、金 属残留、有机物残留，这些颗粒或残留物会影响芯片的良 率。对未来技术发展而言，会出 现清洗后
39、干燥时毛细管 力和表面张力对微细图形造成的损伤控制的进一步需求。 这些需求在保证清洗效果的前提下对清洗干燥技术提出进 一步的挑战。Saqua系列 12英寸单片清洗机采用单片晶圆旋转湿法 清洗技术，此设备具有清洗选择性好、清洗效率高等技 术，包括化学药液保护系统、管路防静电系统、兆声波系 统等。在保证不损伤产品本身结构的前提下，选择性的清 洗残留物。0.5m- 28nm 集成 电路、先 进封 装、 微机 电系 统前道工艺：成膜前/后清洗、栅极清洗、硅化物清洗、 化学机械平坦化后清洗、标 准RCA清洗 后道工艺：通孔刻蚀后的清 洗、沟槽刻蚀后的清洗、衬 垫去除后的清洗、钝化层清 洗、背面清洗封装：
40、TSV 刻蚀后清洗、 UBM/RDL清洗、键合清洗 微机电系统：腐蚀清洗药液回收效率99.5%。 独立的药液保护系统降低药液对 金属的腐蚀速率。 新颖的背面保护技术。 多任务并行处理系统。 先进兆声波清洗技术。 腐蚀非均匀性99%。 有效的管路去静电系统。 实时保护晶片系统。高产能。占地面积小。Saqua系列 SC3000A 12英寸堆叠式单片 清洗机在Fab厂内清洗机的footprint和throughput的比例会导致晶圆出厂量低和制造成本高的结果。这对清洗机制造者提 出了减少设备的footprint和提高throughput的要求。对 未来技术发展而言，会出现对堆叠式清洗机内部微环境控
41、制的进一步需求。这些需求对清洗机FFU和exhaust的优化 设计提出进一步的挑战。Saqua系列 12英寸堆叠式单片清洗机采用堆叠式的技 术，包括堆叠式的三层工艺腔室、多层晶圆传输系统、各 工艺腔室独立的工艺体系等。90-28nm 集成 电路前道工艺：成膜前/后清洗、栅极清洗、硅化物清洗、 标准RCA清洗后道工艺：通孔刻蚀后 的清洗、沟槽刻蚀后的清洗、衬垫去除后的清洗、钝化 层清洗独立的模块化设计。人性化操作界面，操作简单。 运动轨迹上速度、流量可实时控 制的喷淋单元。 更细致的工艺过程动态显示系统。 超稀释化学药液在线配制（1:3000）系统。 腐蚀非均匀性99%。工艺结果具备高度的一致性
42、，确保清洗效果。运行稳定，uptime99%，降低维护成本。Bpure系列 石 英舟/管清洗机为了保证工艺纯度，处理过一定数量的晶圆后，石英管、 石英舟必须从炉中取出并进行清洗。石英管、石英舟及相 关parts本身非常脆弱，它们的清洗必须根据特定工艺的 要求进行定制。Bpure系列石英舟（管）清洗机，广泛应用于集成电 路、封装、光伏等领域。采用浸泡式处理工艺，主要用于 12英寸及以下尺寸的扩散、外延等设备的石英管/舟、碳 化硅管的清洗。此外，也可以用于清洗其它石英材质的零 部件，如石英板、点火炮、保温桶等。集成 电路、先 进封 装、 光伏石英舟/管、石英板、点火 炮、保温桶等零部件清洗分级安全互锁设置，确保设备安全可靠。 良好的密闭性有效保证了工作环 境及操作人员的安全性。 布局专业，占地空间小。 工艺过程完全自动化控制。 Rec
sgpjbg002
工作日 8:30 - 17:30
会员动态：
报告分类
新质生产力
ChatGPT
新能源汽车
大模型
Sora
机器人
微短剧
芯片
薪酬
白皮书
低空经济
数据要素
创新药
人工智能
AI产业
信息科技
互联网
消费经济
汽车交通
电商零售
传媒娱乐
医药健康
投资金融
能源环境
地产建筑
传统产业
英文报告
其它
扫码登录
手机快捷登录
账号登录
