各类光刻胶的市场竞争格局（2020） 原图定位

ArF 光刻胶占主导份额，高端制程半导体光刻胶对日企进口依赖度较高。半导体光刻胶按曝光波长可分为 g 线、i 线、KrF、ArF、EUV 光刻胶，对应制程先进程度、材料壁垒、价值量逐一提升。从需求结构来看，根据前瞻经济学人数据，随着低端制程的淘汰以及先进制程的渗透，2020年全球半导体光刻胶中，传统 i/g线光刻胶需求占比下降至12%，KrF 占比 25%，ArF/ArFi 占比合计达 54%，应用于 7nm 以内先进制程的 EUV 光刻胶占比提升至 7%。目前我国光刻胶主要集中于中低端 PCB 及面板领域，以及紫外宽谱、g线等低端制程环节。高端制程半导体胶过去几十年主要被日本企业垄断，主要生产商包括东京应化、JSR、住友化学、富士胶片、信越化学等。