涂胶显影机产能与光刻机匹配（产能单位WPH） 原图定位

涂胶显影所用的 Track 设备可以分为 offline 与 inline 两类。设备方面，光刻工艺用到的主要设备有涂胶、曝光和显影 3 种，整个光刻工艺中的涂底、旋转涂胶、软烘、后烘、显影、硬烘都是在涂胶显影设备中完成。Track 指涂胶/显影机，又称涂布/显影机，是指光刻工艺过程中与光刻机配套使用的涂胶、显影及烘烤设备。Track 可以分为 offline 与 inline两类，在早期的集成电路工艺和较低端的半导体工艺中，此类设备往往单独使用(offline)，目前 offline 设备主要包括 Barc 及 PI 设备等。随着集成电路制造工艺自动化程度的不断提高，在 200mm 及以上的大型生产线上，此类设备一般都与光刻设备联机作业(inline)，组成配套的圆片处理与光刻生产线，与光刻机配合完成精细的光刻工艺流程。