图20.2-乙烯基萘反应式 原图定位 2-乙烯基萘具备优异性能,目前已成为生产半导体光刻胶的重要原材料之一。根据曝光光源波长,光刻胶可分为 I 线光刻胶(365nm)、G 线光刻胶(436nm)、KrF光刻胶(248nm)、ArF 光刻胶(193nm)、EUV 光刻胶(13.5nm),其中 KrF、ArF、EUV 光刻胶国产化率相对较低。作为一种重要的材料合成中间体,2-乙烯基萘可赋予多种高分子聚合物高耐热、低介电常数、低介电损耗、高折射率、难燃以及低吸湿性等特点。根据公司公告,公司规划的“2-乙烯基萘”可以用于高端光刻胶的生产,该产品实现生产后有望加速高端光刻胶等高端光刻胶的国产化进程。