匀气盘（showerhead）在CVD设备中的应用 原图定位

CVD 是一种热化学过程，气态前驱体在加热的表面上分解和反应，在基底上形成固体薄膜。匀气盘是 CVD 设备中的核心工艺零部件之一，加工难度高，金属盘上有数量众多的小孔和复杂细小的气路通道，晶圆制造过程中需要用到的电子级工业气体经过气柜模组的调节后进入管道，最终由匀气盘以稳定且均匀的速度输送至反应腔，使到达芯片表面的气体密度分布趋于一致。由于匀气盘与核心进气步骤相关，产品的定制化程度也高。