2021年电子制造行业光刻胶供需格局与国产化趋势分析报告（66页）.pdf

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2021年电子制造行业光刻胶供需格局与国产化趋势分析报告（66页）.pdf

光刻胶产业链可以分为上游原材料，中游制造和下游应用三个环节。上游包括感光树脂、单体、光引发剂及添加助剂等原材料，中游包括 PCB 光刻胶、面板光刻胶和半导体光刻胶的制备，下游是各种光刻胶的应用。在 IC(集成电路)行业：光刻工艺是将掩膜版的电路结构复制到硅片上的过程，而光刻胶是光刻工艺中的重要材料。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的 35%，并且耗费时间约占整个芯片工艺的 40%-60%。可以将光刻工艺和照相技术做一个类比，照相是将镜头里的画面“印”到底片上，光刻工艺是将电路图和电子元件“刻”在“底片”上。在 LCD 面板行业：应用于显示面板行业的光刻胶可以按用途再细分为 TFT 用光刻胶、触摸屏用光刻胶和滤光片用光刻胶。(1)TFT 用光刻胶：用于在玻璃基板上制造场效应管(FET)。每一个 TFT 都用来驱动一个子像素下的液晶，因此需要很高的精度。(2)触摸屏用光刻胶：用于在玻璃基板上趁机 ITO，从而制作图形化的触摸电极。(3)滤光片用光刻胶：用于制作彩色滤光片，又分为彩色光刻胶和黑色光刻胶。

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