1、光刻胶是半导体,面板,PCB 等领域加工制造中的关键材料。光刻胶由树脂,感光剂, 溶剂,光引发剂等组成的混合液态感光材料。原理是利用光化学反应,经光刻工艺将所 需要的微细图形转移到加工衬底上,来达到在晶圆上刻蚀出需的图形的目的。 从光刻胶的发展历程看,从 20 世纪 50 年代至今,光刻技术经历了紫外全谱(300-340nm), G 线(436nm),I 线(365nm),深紫外(Deep Ultraviolet,DUV,248nm 和 193nm), 以及目前最引人注目的极紫外(EUV,13.5nm)光刻,电子束光刻等六个阶段,随着光 刻技术发展,各曝光波长的光刻胶组分(成膜树脂、感光剂和添
2、加剂等)也随之变化。 根据反应机理和显影原理,可以将光刻胶分为正性光刻胶和负性光刻胶。正性光刻胶形 成的图形与掩膜版(光罩)相同,负性光刻胶显影时形成的图形与掩膜版相反。根据感 光树脂的化学结构,光刻胶可分为光聚合型,光分解型和光交联型。根据应用领域,光 刻胶可以分为 PCB 光刻胶、面板光刻胶和半导体光刻胶。新增高世代线面板产能持续促进面板光刻胶需求。此外,智研产业研究院也对中国及全 球面板光刻胶进行了统计,随着全球高世代线陆续投产,面板出货面积有所增长,对上 游面板光刻胶需求稳定增长,全球 2015 年面板光刻胶市场规模突破 19.57 亿美元,假 设复合增速约为 4%,则全球光刻胶预计
3、2020 年将达到 23.7 亿美元,2016 年我国面板 产能占全球比重为 26%,随着京东方等十数家国产厂商扩产项目陆续投产,预计 2020 年我国面板产能占比有望提升至 42%以上,则整体国内市场规模有望达到 10.2 亿美元 约 66.3 亿元,复合增速 25%。国产光刻胶份额:受益于半导体、显示面板、PCB 产业东移的趋势,根据雅克科技,自 2011 年至今,光刻胶中国本土供应规模年化增长率达到 11%,高于全球平均 5%的增 速。2019 年中国光刻胶市场本土企业销售规模约 70 亿元,全球占比约 10%,发展空间 巨大。目前,中国本土光刻胶以 PCB 用光刻胶为主,平板显示、半导体用光刻胶供应量占比极低。
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