1、光刻胶国产化率近为10%，提升国产化率的必要条件是实现技术突破，技术是核心竞争力。其中半导体用光刻胶生产难度最大，也是市场投资者最关心的品种，从不同制程芯片需求占比情况来看，90nm 以上芯片制程占据中国主导市场，因此中低端光刻胶需求最高，对应 G/I 线、KrF 光刻胶，因此掌握量产技术的彤程新材、晶瑞电材以及华懋科技相对受益。未来90-28nm 制程芯片市场份额逐渐提升，尽快实现ArF 光刻胶量产是各企业提升竞争力的关键。光刻胶处于行业导入和技术突破阶段，在国产替代机遇下，拿到客户订单至关重要，光刻胶的客户认证周期长达 1-3 年，一旦确认供应关系不会轻易更换，因此进入下游客户体系意味着在
2、市场份额争夺中抢占先机。在国家政策大力支持以及全球产业链转移，中国大陆晶圆厂产能高速扩张背景下，国产替代进程加速，2021 上半年，全球第四大光刻胶生产企业信越化学限供 KrF 光刻胶，使得国产化替代更加迫切，国产企业迎来黄金发展机遇。从今年前三季度业绩表现来看，国产替代有实质性进展，企业业绩兑现加速。半导体用光刻胶销售额增速显著，头部企业均在 50%以上。其中彤程新材表现亮眼，G/I线、KrF 光刻胶前三季度实现同比 62%、227%高增速，半导体光刻胶板块订单额接近 1亿元，同比增速达到 52%，单三季度环比 66%;面板光刻胶订单额接近 2 亿元，同比增长26%，环比增长 57%。国产光
3、刻胶导入进程加快，头部企业逐渐释放产能，以满足下游厂商快速增长的需求，增强与供应商之间的粘性。全球产业链转移、政策驱动及下游市场高景气度驱动湿电子化学品市场增长，区域约束+相对较低的技术壁垒驱动湿电子化学品成为半导体材料中国产化进程较快的材料。 2020 年全球湿电子化学品市场规模为 50.8 亿美元，近5 年CAGR 为 4.3%，2019 年，中国湿电子化学品市场规模突破 100 亿元，受益于全球半导体和面板显示制造环节产业链转移，中国市场增速远高于全球增速，2015-2019 年CAGR 为16.7%。高纯度级别国产替代空间广阔，对于太阳能电池行业，“碳中和”政策+“平价上网”进程推动市
4、场增长，带动湿电子化学品用量大幅提升。平板显示行业，一方面，面板产业链转移+AMOLED产能提升，带动湿电子化学品用量翻 1.3 倍，预计2024 年达到105 万吨，另一方面，G6以上高世代线国产替代空间广阔。半导体行业，一方面，晶圆厂产能扩张+晶圆大尺寸化+高制程发展，带动湿电子化学品需求量翻 1.5 倍，预计2024 年达104 万吨，另一方面， 90nm 以内高制程是未来晶圆厂主要扩产方向，掌握高纯度技术的企业将在未来获得更多市场份额。中国大陆市场集中度较低，湿电子化学品生产企业共有 40 余家，具有规模化的企业有30 余家，各公司产量较小，按照销售规模计算，湿电子化学品龙头公司江化微
5、和格林达，2019 年市占率仅为 4.8%和 5.1%。大陆企业大致分为三类，第一类是以江化微、格林达和江阴润玛为代表的湿电子化学品专业供应商，主营业务以湿电子化学品为主，产品种类丰富且毛利率较高;第二类是以晶瑞电材和飞凯材料为代表的电子材料平台型企业，以泛半导体业务为主，具有客户导入优势;第三类是以巨化股份为代表的大化工企业，湿电子化学品品种较少，营收占比较小，与其他业务有产业链协同效应，在原料方面具有相对优势。根据SEMI 标准，IC 线宽范围越小，纯度要求越高，200nm-90nm 要求G4 纯度湿电子化学品，90nm 以下的芯片要求使用 G5 纯度。国内达到 G5 纯度级别的企业包括： 晶瑞电材超净高纯双氧水和超净高纯氨水，以及在建的 3 万吨超净高纯硫酸;多氟多电子级氢氟酸，1 万吨;滨化股份电子级氢氟酸，0.6 万吨;兴发集团的电子级硫酸，现有2 万吨，在建4 万吨。兴发集团联营企业兴力电子的电子级氢氟酸，现有1.5万吨，在建1.5 万吨;上海新阳，芯片铜互连电镀液可用于90-14nm、干法蚀刻后清洗液可用于 28nm 以上制程，现有产能 0.56 万吨，在建 1.5 万吨;中巨芯，1x 纳米制程所需电子级氢氟酸，产能未公布;江化微硫酸、氨水、盐酸在建中，产能 5.8 万吨，投产后纯度可达 G4-G5。
sgpjbg002
工作日 8:30 - 17:30
报告分类
