1、 证券研究报告 请务必阅读正文之后的免责条款 IC 领域百亿市场领域百亿市场，国产超净高纯走向高端国产超净高纯走向高端 新材料行业半导体材料系列之二2020.4.20 中信证券研究部中信证券研究部 核心观点核心观点 袁健聪袁健聪 首席新材料分析师 S05 王喆王喆 首席化工分析师 S01 徐涛徐涛 首席电子分析师 S03 我国超净高纯试剂技术不断突破，国内龙头企业逐步进入高端市场，抢占外资我国超净高纯试剂技术不断突破，国内龙头企业逐步进入高端市场，抢占外资 市场份额。叠加下游需求的增长和产业转移，龙头公司有望享受行业红利，重市场

2、份额。叠加下游需求的增长和产业转移，龙头公司有望享受行业红利，重 点推荐晶瑞股份、江化微、安集科技，建议关注上海新阳、格林达点推荐晶瑞股份、江化微、安集科技，建议关注上海新阳、格林达。 超净高纯试剂参与多个工艺环节，集成电路领域需求量巨大超净高纯试剂参与多个工艺环节，集成电路领域需求量巨大。超净高纯试剂是 微电子领域重要材料，用于电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影、蚀刻、掺 杂等工艺环节，按纯度从 G1 到 G5 分别对应从光伏太阳能电池到集成电路的不 同应用。 在集成电路领域的图形转移过程中， 一般需要进行十几次光刻和蚀刻工 艺，对超净高纯试剂需求巨大。 国国外企业占据高端市场，国内水平存

3、在差距外企业占据高端市场，国内水平存在差距。当前全球市场主要由国外企业占 据主导，2018 年欧美传统超净高纯试剂企业占据 33%的市场份额，日本企业占 27%市场份额，剩余市场由韩国、中国大陆及台湾地区的企业所占据。低端应用 领域我国自给率已超 80%，国外企业凭借技术优势占据高端市场份额，中国大 陆超净高纯试剂企业与世界先进水平存在一定距离。 下游需求增长下游需求增长+产业转移，超净高纯试剂市场不断扩容产业转移，超净高纯试剂市场不断扩容。1）IC 领域，我国晶圆 制造产线数量迅速增长，产能占全球比例快速提升，若我国现有的 12 英寸晶圆 制造产线全部投产并达到满负荷生产状态，仅 12 英寸

4、产线对超纯试剂的需求量 将达 88 万吨。2）LCD 产业中心向中国呈现明显转移，伴随我国面板产能的释 放， 对超净高纯试剂需求预计仍将维持增长。 OLED 方面， 中国大陆亦发展快速， 料未来 OLED 产能相当可观，对应超纯试剂的需求量巨大。3）光伏太阳能电池 领域， 我国光伏产能占全球比例快速提升， 对超净高纯试剂需求量仍在不断增长。 2018 年全球超净高纯试剂市场规模约 372 亿元，我国市场规模约 80 亿元。根 据我们的测算，至 2023 年，预计我国超净高纯试剂市场规模将达 193 亿元，其 中 IC 领域超净高纯试剂市场规模达 104 亿元。 核心技术不断突破，龙头企业走向高

5、端。核心技术不断突破，龙头企业走向高端。随着国内龙头企业的研发突破，逐步 掌握分离纯化技术、复配工艺技术、检测分析技术等核心技术，目前已有少数几 家企业的产品技术等级能够达到 G3 级，部分产品甚至可以达到 G4、G5 等级， 与国际先进水平相当。这些企业在半导体、面板领域逐步获得下游认可，进入高 端市场并不断提高市占率，未来有望成长为国际一流的超净高纯生产企业。 风险因素：风险因素：市场竞争加剧、下游认证不及预期、下游行业需求萎缩。 投资策略投资策略：我国超净高纯试剂技术不断突破，国内龙头企业逐步进入高端市场， 抢占外资市场份额。 叠加下游需求的增长和产业转移， 龙头公司有望享受行业红 利，

6、重点推荐晶瑞股份、江化微、安集科技，建议关注上海新阳、格林达。 重点公司盈利预测、估值及投资评级重点公司盈利预测、估值及投资评级 简称简称 收盘价收盘价 （元）（元） EPS（元）（元） PE 评级评级 2018 2019E 2020E 2018 2019E 2020E 晶瑞股份 31.48 0.34 0.21 0.30 93 150 105 增持 江化微 34.69 0.48 0.32 0.51 72 108 68 增持 安集科技 138.2 1.13 1.29 1.69 122 107 82 买入 上海新阳 49.96 0.03 - 0.29 722 38 179 - 资料来源：Wind，

7、中信证券研究部预测 注：上海新阳为 Wind 一致预期；股价为 2020 年 4 月 13 日收盘价；晶瑞股份、江化微 2019 年 EPS 为实际值。 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 目录目录 超净高纯试剂：百亿市场，微电子领域重要材料超净高纯试剂：百亿市场，微电子领域重要材料 . 1 微电子领域重要材料，从 IC、面板到光伏均不可或缺 . 1 三大应用构建产品梯度，全球市场规模 372 亿元 . 3 下游需求增长下游需求增长+产业转移，高纯试剂市场持续扩容产业转移，高纯试剂市场持续扩容 . 5 IC：仅 12 英

8、寸在建产线便有 40 万吨高纯试剂需求 . 5 面板：LCD 存量市场受益产业转移，OLED 发展贡献增量 . 9 太阳能电池：行业持续增长，拉动高纯试剂需求 . 12 总结：我国超净高纯试剂市场规模具备翻倍空间 . 14 国产化持续推进，龙头企业国产化持续推进，龙头企业迈向高端市场迈向高端市场. 15 海外巨头占据高端，国内企业逐步突破 . 15 砥砺前行，国内龙头逐步掌握核心技术 . 18 低端满足自给，进军高端提升市场份额 . 20 风险因素风险因素 . 21 投资建议与重点公司推荐投资建议与重点公司推荐 . 21 晶瑞股份：湿电子化学品龙头，技术实力领先. 22 江化微：湿电子化学品领

9、军企业，未来值得期待 . 23 安集科技：抛光液+光刻胶去除剂双轮驱动，迎接行业黄金时期 . 24 上海新阳：深耕产业厚积薄发，半导体材料多点开花 . 25 格林达：正胶显影液龙头，扩产增效布局未来. 26 rQsNoOmQnQtNtRoPzRoPsRaQcM9PpNrRnPrRkPpPqMkPoMnM6MqQwOMYmQoONZmOoM 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 插图目录插图目录 图 1：超净高纯试剂所处产业链 . 1 图 2：超净高纯试剂应用工艺环节 . 1 图 3：全球 IC 领域超净高纯试剂市场规模 .

10、 3 图 4：全球超净高纯试剂下游应用领域（按用量） . 3 图 5：我国 IC 超净高纯试剂市场规模 . 4 图 6：我国超净高纯试剂下游应用领域（按用量） . 4 图 7：我国超净高纯试剂生产量 . 4 图 8：我国三大应用市场对超净高纯试剂需求量 . 4 图 9：集成电路制造工艺流程 . 5 图 10：全球晶圆制造资本支出保持增长 . 6 图 11：半导体制造设备销售额保持高位水平 . 6 图 12：我国半导体销售额占全球比例逐年提升 . 7 图 13：全球 12 英寸晶圆产线数量 . 7 图 14：2018 年全球 12 英寸晶圆产线地区分布 . 7 图 15：TFT-LCD 阵列制造

11、工艺流程 . 9 图 16：OLED 阵列制造工艺流程 . 10 图 17：2018 年面板用超净高纯试剂比例 . 11 图 18：LCD 面板厂商营收 . 11 图 19：我国大尺寸面板出货量. 11 图 20：我国 LCD 面板厂商全球占比快速提升 . 12 图 21：太阳能电池制造工艺流程 . 13 图 22：我国光伏产能占全球比例快速提升 . 14 图 23：我国超净高纯试剂需求量变化 . 14 图 24：超净高纯试剂市场规模变化 . 15 图 25：2018 年全球高纯试剂市场份额 . 16 图 26：韩国东进超净高纯试剂产品 . 18 图 27：纯化工艺示意图 . 19 图 28：

12、混配工艺示意图 . 19 图 29：龙头企业逐步具备 G4、G5 等级高纯试剂生产能力 . 19 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 表格目录表格目录 表 1：超净高纯试剂分类 . 2 表 2：超净高纯试剂等级划分 . 2 表 3：杂质对电子元器件危害 . 2 表 4：晶圆制造消耗的超净高纯试剂 . 5 表 5：中国大陆已运行及建设中的 12 寸晶圆厂 . 8 表 6：面板 Array 制程主要超净高纯试剂类型 . 10 表 7：我国 OLED 产线 . 12 表 8：太阳能电池的超净高纯试剂单位消耗量 . 13 表 9

13、：全球各地区高纯试剂主要生产企业 . 16 表 10：我国大陆主要高纯试剂生产企业 . 17 表 11：我国具备高纯试剂生产能力的主要企业 . 19 表 12：国产企业产品逐步进入高端应用领域 . 20 表 13：晶瑞股份盈利预测与估值 . 22 表 14：江化微盈利预测与估值. 23 表 15：安集科技盈利预测与估值 . 24 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 1 超净高纯试剂超净高纯试剂：百亿市场，微电子领域重要材料：百亿市场，微电子领域重要材料 微电子领域重要材料微电子领域重要材料，从从 IC、面板到光伏均不可或

14、缺、面板到光伏均不可或缺 超净高纯试剂是微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化工材料之一，一代微细 加工技术需要一代超净高纯试剂与之配套，下游应用包括半导体、平板显示、光伏太阳能 等领域。 图 1：超净高纯试剂所处产业链 资料来源：格林达招股书，中信证券研究部 超净高纯试剂主要应用于电子元器件微细加工的清洗、光刻、显影、蚀刻、掺杂等工 艺环节。对电子元器件基础材料进行清洗后，将光刻胶涂覆在表面，经曝光、显影后实现 复杂微细电极图案的转移，然后采用蚀刻剂进行蚀刻将不需要的衬底材料除去，留下需要 的电极图案，并为后续的硅片或面板材料的电特性功能改进做准备。一般完成电子元器件 产品的制造，实现所需

15、要的功能，需要十几道甚至几十道工艺流程。 图 2：超净高纯试剂应用工艺环节 资料来源：江化微招股书，中信证券研究部 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 2 按类型分，可以将超净高纯试剂分为复配型超净高纯试剂和单一型超净高纯试剂。复 配型超净高纯试剂包括显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、稀释液等；单一型超净高纯试 剂则包括酸类、碱类、有机溶剂类等。 表 1：超净高纯试剂分类 超净高纯试剂类别超净高纯试剂类别 小类小类 品名品名 复配型超净高纯试剂 复配类化学品 显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、稀释液等 单一型超净高纯试剂 酸

16、类 氢氟酸、硝酸、盐酸、磷酸、硫酸、乙酸等 碱类 氨水、氢氧化钠、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵等 有机溶剂类 醇类 甲醇、乙醇、异丙醇等 酮类 丙酮、丁酮、甲基异丁基酮等 脂类 乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异戊酯等 烃类 苯、二甲苯、环己烷等 卤代烃类 三氯乙烯、三氯乙烷、氯甲烷、四氯化碳等 其他类 双氧水等 资料来源：格林达招股书，晶瑞股份招股书，中信证券研究部 超净高纯试剂对杂质要求极高，不同的杂质存在会对电子元器件的性能产生致命的影 响。而超净高纯试剂的应用市场半导体、显示、光伏太阳能电池对微电子化学品的纯度要 求所有不同。 （1）半导体领域中，集成电路用超净高纯试剂的纯度要求较高，基本集中在

17、SEMI G3、G4 乃至 G5 水平。我国的研发水平与国际尚存差距。分立器件对超净高纯试 剂纯度要求较集成电路低，基本集中在 SEMI G2 水平，国内企业生产技术能够满足大部 分生产需求。 （2）显示领域对超净高纯试剂的等级要求为 SEMI G2、G3 水平，国内企业 的生产技术能够满足大部分的生产需求。 （3）光伏太阳能电池领域一般只需要 SEMI G1 水平，是我国国产超净高纯试剂的主要市场。 表 2：超净高纯试剂等级划分 SEMI G1 G2 G3 G4 G5 金属杂质/ppb 1000 10 1.0 0.1 0.01 控制粒径/m 1.0 0.5 0.5 0.2 需双方协商 颗粒/

18、（个/ml） 25 25 5 需双方协商 需双方协商 IC 线宽/m 1.2 0.81.2 0.20.6 0.090.2 0.09 应用 分立器件、 太阳能 电池 显示面板 大规模集成电路 （IC） 、 超高清 LCD、 OLED 显示面板 资料来源：格林达招股书，中信证券研究部 表 3：杂质对电子元器件危害 杂质杂质 杂质的危害杂质的危害 Au、Pt、Fe、Ni、Cu 这类杂质属于硅片中的快扩散物质，也是俘获中心。影响元器件的可靠性和阈值电 压，导致低击穿和缺陷。 碱金属，尤其 Na、K 可造程元器件漏电，造成低击穿。 非金属离子 F-、Cl- 影响化学气相淀积工艺和钝化工艺，导致外延片层错

19、增加。 P、As、Sb、B、Al 等 IIVI 组 属于硅片中的浅能级杂质，有扩散作用，可影响电子和空穴的数量。P、As、Sb 是 N 型杂质，当过量时能使 P 型硅片反型；B、Al 是 P 型杂质，若过量也会反型。 固体颗粒：包括尘埃、造成光刻缺陷，氧化层不平整，影响制板质量，影响等离子刻蚀工艺。 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 3 杂质杂质 杂质的危害杂质的危害 金属氧化物晶体、 水管、 离子交换树脂碎片、各 种过滤膜的纤维、细菌 和微生物的尸体等 细菌 水和化学试剂中的细菌能造成颗粒型缺陷和污染。细菌分解的有机

20、酸会使水的电阻 率降低。 硅酸根 水和 1 化学试剂中的硅酸根会使磷硅玻璃起雾，阈值电压变化。在等离子刻蚀工艺 中 SiO2 会造成颗粒污染形成缺陷。 总有机碳（TOC） 水和试剂中的 TOC 影响栅氧化的击穿电压，造成水雾，使氧化层厚度不均 资料来源： 微电子工业对超净高纯化学品的质量要求 （杨昀） ，中信证券研究部 三大应用构建产品梯度三大应用构建产品梯度，全球市场规模全球市场规模 372 亿亿元元 超净高纯试剂按纯度从 G1到 G5分别对应从光伏太阳能电池到集成电路的不同应用， 构建了产品的梯度分布。2018 年全球超净高纯试剂市场规模 52.56 亿美元，折合人民币 约 372 亿元，

21、其中 IC 领域超净高纯试剂市场规模 38.4 亿美元，折合人民币约 272 亿元， 同比增长 9.71%。 按下游应用领域分， 2018 年半导体占据超净高纯试剂下游用量的 43%， 平板显示占据 33%，太阳能电池占据 24%的用量。 图 3：全球 IC 领域超净高纯试剂市场规模 图 4：全球超净高纯试剂下游应用领域（按用量） 资料来源：SEMI，中信证券研究部 资料来源：华经情报网，中信证券研究部 2017 年我国超净高纯试剂市场规模约 80 亿元，其中 IC 领域超净高纯试剂市场规模 约 40 亿元。按下游应用领域分，半导体占据超净高纯试剂下游用量的 31%，平板显示占 据 38%，太

22、阳能电池占据 31%的用量。 0% 2% 4% 6% 8% 10% 12% 14% 16% 0 10 20 30 40 50 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 全球IC超净高纯试剂市场规模（亿美元） YOY 43% 33% 24% 半导体平板显示太阳能电池 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 4 图 5：我国 IC 超净高纯试剂市场规模 图 6：我国超净高纯试剂下游应用领域（按用量） 资料来源：江苏省集成电路产业发展研究报告（江苏省半导体行 业协会），中信证券研究部预测 资料

23、来源：华经情报网，中信证券研究部 2018 年，我国超净高纯试剂产量 49.5 万吨，同年我国需求量达到 90.5 万吨，整体自 给率呈现不足。 而随着我国下游行业的快速发展， 对超净高纯试剂的需求量仍将继续增大。 图 7：我国超净高纯试剂生产量（万吨） 图 8：我国三大应用市场对超净高纯试剂需求量（万吨） 资料来源：中国电子材料协会，中信证券研究部 资料来源：中国电子材料协会（含预测），中信证券研究部 0% 5% 10% 15% 20% 25% 0 5 10 15 20 25 30 35 40 45 我国IC超净高纯试剂市场规模（亿元）YOY 31% 38% 31% 半导体平板显示太阳能电池

24、 0% 5% 10% 15% 20% 25% 30% 35% 40% 0 10 20 30 40 50 60 200018 我国超净高纯试剂生产量（万吨）YOY 0 20 40 60 80 100 120 140 160 20019E2020E 半导体平板显示太阳能电池 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 5 下游需求增长下游需求增长+产业转移产业转移，高纯试剂市场持续扩容高纯试剂市场持续扩容 IC：仅仅 12 英寸英寸在建在建产线便有产线便有 40 万吨

25、高纯试剂需求万吨高纯试剂需求 在进行芯片制作前，一般要对晶圆的表面进行抛光处理。主要步骤为机械研磨、蚀刻 清洗（使用硝酸、醋酸、氢氧化钠等） 、晶圆抛光和表面清洗（氨水、过氧化氢、去离子 水等） 。晶圆表面处理后，还将对晶圆进行一系列的复杂工艺，使纯粹的硅晶圆变为 N 型 或 P 型硅晶圆。晶圆处理后，芯片制造流程包括成膜、涂胶、曝光、显影、蚀刻、光刻胶 剥离等流程。在图形转移过程中，一般需要进行十几次光刻和蚀刻工艺，对超净高纯试剂 需求较大。根据 IC 线宽的不同，所需要的超净高纯试剂等级亦有所差别。IC 线宽越窄， 集成度越高，对超净高纯试剂要求也越高。 图 9：集成电路制造工艺流程 资料

26、来源：格林达招股书 晶圆生产过程中涉及众多超净高纯试剂，由于各厂商工艺不同化学品需求量和需求种 类不尽相同。根据中国电子材料行业协会的数据，12 寸的晶圆消耗超净高纯试剂约 240 吨/万片，8 英寸的晶圆制造所使用超净高纯试剂约为 45 吨/万片。 表 4：晶圆制造消耗的超净高纯试剂（吨/万片） 晶圆尺寸晶圆尺寸 12 英寸英寸 8 英寸英寸 6 英寸英寸 超净高纯试剂名称 单位消耗量（吨/万片） 双氧水 78.35 8.67 5.62 硫酸 75.47 15.78 9.47 显影液 22.56 氨水 20.5 3.54 2.12 蚀刻液 15.85 1.35 氢氟酸 12.85 3.06

27、1.84 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 6 晶圆尺寸晶圆尺寸 12 英寸英寸 8 英寸英寸 6 英寸英寸 硝酸 12.59 盐酸 1.65 0.13 0.08 异丙醇 5.36 3.22 剥离液 3.35 2.01 缓冲蚀刻液 2.55 1.53 磷酸 1.38 0.83 合计 239.82 45.17 26.72 资料来源： 我国半导体集成电路用化学品和材料行业近况分析 （徐京生） ，中信证券研究部 从下游需求看，集成电路行业的资本开支情况为上游原材料景气度的先行指标。2019 年， 全球晶圆制造资本支出 392

28、.7 亿美元， 同比增长 8.37%。 其中制造设备方面， 日本 2019 年半导体制造设备销售额达 20329 亿日元，折合人民币约 1345 亿元，虽然较 2018 年同 比有所下降，但仍保持高位水平。我们预计在下游较大的资本开支支持下，上游半导体材 料仍将保持高景气度。 图 10：全球晶圆制造资本支出保持增长 图 11：半导体制造设备销售额保持高位水平 资料来源：Wind，中信证券研究部 资料来源：Wind，中信证券研究部 从区域上看， 2019 年全球半导体销售额 4101 亿美元， 较 2018 年同比下降 12.05%， 但我国半导体销售额占全球比例逐年上升， 从 2014 年的

29、27.32%提升至 2019 年的 35.14%， 体现了我国高于全球的行业增速。产业重心正在向我国发生转移。 -10% -5% 0% 5% 10% 15% 20% 0 50 100 150 200 250 300 350 400 450 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 全球晶圆制造资本支出（亿美元）YOY -30% -20% -10% 0% 10% 20% 30% 40% 50% 0 5000 10000 15000 20000 25000 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019 日本半导体制造设备出货额（亿日元）YOY 新

30、材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 7 图 12：我国半导体销售额占全球比例逐年提升（亿美元） 资料来源：Wind，中信证券研究部 中国大陆晶圆产能中国大陆晶圆产能近年近年将明显提升。将明显提升。根据主要晶圆厂商官网披露数据统计，未来五年 在中国大陆新建至少 29 座晶圆厂，总产能规划达 207 万片/月，对应的投资总规模超过了 9000 亿元。预计其中存储领域未来五年新增月产能 108.5 万片/月（对应投资额超过 4600 亿元） ，功率器件等 IDM 领域新增月产能 70.3 万片/月（对应投资额超 2500 亿元）

31、 ，代工 领域新增月产能 28.3 万片/月 （对应投资额超 1900 亿元） 。 就 12 寸晶圆厂来看 （如下表） ， 目前有 37 座，其中 17 座在建，对应晶圆代工产能合计：282.6 万片/月，其中在建 137 万片/月。随着下游产能的快速增长，我们预计超净高纯试剂市场亦将持续扩容，其中仅 12 英寸在建产能便有 40 万吨超净高纯试剂需求。 图 13：全球 12 英寸晶圆产线数量 图 14：2018 年全球 12 英寸晶圆产线地区分布 资料来源：芯思想，中信证券研究部 资料来源：IC Insights，中信证券研究部 0% 5% 10% 15% 20% 25% 30% 35% 4

32、0% 0 500 1,000 1,500 2,000 2,500 3,000 3,500 4,000 4,500 5,000 2001720182019 美洲日本欧洲中国亚太其他地区中国销售额占比 0% 2% 4% 6% 8% 10% 12% 0 20 40 60 80 100 120 全球12英寸晶圆产线数量YOY 22% 21% 17% 13% 12% 6% 9% 中国台湾韩国日本美国中国大陆欧洲其他 新材料新材料行业行业半导体材料系列之二半导体材料系列之二2020.4.20 请务必阅读正文之后的免责条款部分 8 表 5：中国大陆已运行及建设中的 12 寸晶圆厂 #

33、公司公司 工厂代码工厂代码 地点地点 状态状态 生产项目生产项目 月产量月产量/万万 1 中芯国际 S2A 上海 4028 nm CMOS 2 2 中芯国际 B2A 北京 6528 nm CMOS 3.5 3 中芯国际 B1 Mega Fab 北京 9065 nm CMOS 5 4 中芯国际 B3 北京 在建 2814 nm CMOS 3.5 5 中芯南方 SN1 上海 1410 nm 研发 3.5 6 中芯南方 SN2 上海 在建 2814 nm CMOS 3.5 7 中芯国际 SZ（Fab 16A/B） 深圳 9040 nm CMOS 4 8 紫光集团 CD 成都 在建 NAND、DRAM 30 9 紫光集团 NJ 南京 在建 NAND、DRAM 30 10 长江存储 F2 武汉 NAND、DRAM 30 11 武汉新芯 F1