正性光刻胶(正胶)与负性光刻胶(负胶)对比 原图定位 光刻胶按显示效果分为正性光刻胶和负性光刻胶,正胶通常用来绘制精细图形,负胶成本低、抗刻蚀能力强。光刻胶是一种受到光照后特性会发生改变的光敏材料,在光辐照的作用下,光敏化合物分解,激发光化学反应,在显影液中的溶解度发生变化,使得受光辐照的区域更加容易溶解于显影液中(负胶情况相反)。因此按照曝光区域的去除或者保留区分,曝光后溶解度上升的物质称作正性光刻胶(正胶),反之则为负性光刻胶(负胶)。使用正胶形成的图形与掩膜版相同,负胶则图形相反。正胶经显影处理后溶解度上升,被曝光的区域溶于显影液,在后续的刻蚀、沉积等工艺中会被去除掉,而没有被曝光部分不会受后续工艺的影响。负胶经曝光而固化的部分,在显影过程中,因吸收部分显影液而容易膨胀、变形,不适合绘制精细图形。