2022年我国各类半导体光刻胶国产化率普遍较低(%) 原图定位 我国半导体光刻胶国产化率低,国产替代需求迫切。据材料智链数据,我国几类光刻胶国产化率普遍较低,目前国内 g 线光刻胶和 i 线光刻胶国产化率仅 10%,KrF 光刻胶和 ArF 光刻胶的自给率仅 1%,EUV 光刻胶目前尚无国内企业可以大规模生产,处于研发阶段,国产化率提升需求迫切。