图表163M氟化液冷却与其他液体冷却控温成像对比 原图定位 氟化液在干法刻蚀环节用做控温液,可帮助提升芯片制程中的整体良率,缩短芯片研发周期。在集成电路的制造过程中,刻蚀是利用化学或物理方法有选择性的从硅片表面去除不需要材料的一种工艺。干法刻蚀,即将特定气体置于低压状态下施以电压,将其激发成电浆,对特定膜层加以化学性刻蚀或离子轰击,达到去除膜层的一种刻蚀方式。在半导体先进制程中,随着尺寸越来越小,层数越来越多,在刻蚀高深宽比的结构时,如何精准的控制晶圆表面的温度变得至关重要。在刻蚀机台的腔体内,晶圆吸附在 ESC表面,如果这个过程选用的控温液温度控制不均匀,会对刻蚀速度,结构形貌有很大影响,最终导致晶圆良率低。氟化液凭借高绝缘性和稳定性,能够将工艺温度控制在客户规定的标准范围以内,从而帮助提升芯片制程中的整体良率,缩短芯片研发周期。