2022年全球刻蚀设备中ICP与CCP占比相 原图定位 刻蚀设备在半导体设备中为价值量最高的环节之一,CCP 设备占比预将回升超越 ICP设备。2022 年全球半导体设备市场中刻蚀设备占比与薄膜沉积设备相近,约为 22%,是占比最高的设备环节;其中 ICP 刻蚀设备及 CCP 刻蚀设备分别占刻蚀设备市场规模的 47.9%和 47.5%,整体占比相当,过去 CCP 设备市场规模占比更高,后伴随先进制程发展 ICP 设备需求增速更快、使得 ICP 设备占比超越 CCP 设备,近年来由于 NAND 逐步迈入 3D 结构时代,存储芯片对 CCP 设备需求增大,使得 CCP 设备市场规模占比快速回升,且预计未来将再度反超 ICP 设备占比。