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1、2023年11月福建阿石创新材料股份有限公司使命:用材料科技刻画美好世界阿石创ITO靶材国产化进展12CONTENT目录目录关于我们阿石创ITO靶材国产化进展1 1PART 关于我们1-1关于我们成立时间:成立时间:2002年年10月月主营业务:主营业务:PVD镀膜材料镀膜材料上市时间:上市时间:2017年年9月月股票代码:股票代码:300706.SZ 福建阿石创新材料股份有限公司成立于2002年,总部位于福州市长乐区,公司专业从事各种PVD镀膜材料研发、生产和销售,主导产品为溅射靶材和蒸镀材料两个系列产品,主要应用于光学光电子产业、半导体、光伏太阳能、显示面板、LOW-E玻璃等行业,用以制备
2、各种薄膜材料。2022年营业收入6.95亿元,2023年前三季度营业收入6.98亿元预计年底将突破10亿元。薄膜材料尖端力量1-2产业布局福州福州常州常州台湾台湾n 制造单元:阿石创航城、临空,三明顶创恒隆,常州苏晶、台湾绑定工厂n 投资平台:福建顶创控股公司n 服务单元:台湾阿石创、台湾苏晶电子 三明三明1-3阿石创工厂靶材产能规划3000片/月,国内单体产能最大01先进的智能制造工艺,行业领先的全自动(联动)绑定线03靶材品种多元化,包含平面和旋转靶,覆盖金属/合金/ITO等0204高标准高科技的研发中心和检测中心,为创新提供支持平台05注重回收的绿色循环模式A以创新助推薄膜材料产业的高质
3、量发展 A2:先进的靶材研发、生产智造基地愿景使命价值观质量方针成为全球一流的PVD镀膜方案提供商创新、严谨、责任、协同用材料科技刻画美好世界不断创新、以质取胜顾客满意、持续发展1-4上海品茶2 2PART阿石创ITO靶材国产化进展2-1ITO奖项ITO靶材制备技术属于国家35项“卡脖子”技术之一;阿石创自主知识产权技术,屡获大奖。阿石创ITO靶材制备关键技术及工程化 2021年9月获得由“国务院”颁发的“国家技术发明奖”二等奖。国家技术发明奖国家技术发明奖中国有色金属工业科技技术奖中国有色金属工业科技技术奖福建科技进步奖福建科技进步奖2-2ITO靶材产能2 0 2 32 0 2 5单片长度突
4、破至1500mm产能突破至500t/年2 0 3 0细分市场领航者阿石创当前产能300吨/年,按异质结电池每GW年消耗15吨ITO计算,理论上可满足约20GW的市场需求,随着二期产能释放,2025年产能将提升至500吨/年,可以满足约35GW产业市场需求。2-3ITO旋转靶材制程工艺流程图原料In2O3/SnO2 砂磨制浆.喷雾造粒 CIP成型 脱脂 烧结 机械加工绑定 产品检验产品检验客户2-4全球铟资源储量分析中国72.7%其他国家21.5%秘鲁3.3%美国2.5%全球铟资源主要国家储量分布铟属于稀散金属,且是伴生矿,无法单独开采。当前全球探明可开采铟储量11000吨。其中我国为最大储国,
5、可开采储量8000吨。2-5ITO靶材市场分析从全球ITO靶材市场分析,日韩占据了全球70%的市场份额,2019年后随着国内部分企业已经突破了关键技术攻坚,ITO靶材市场,国产化进程开始加速。2021年后部分日韩企业开始宣布退出ITO制造领域,国内企业ITO市场开始快速提升。国内头部企业也开始对日韩企业产线进行并购,其中阿石创收购日本爱发科2条ITO产线,产能开始随之加速释放。由于国产ITO靶材不断突破技术瓶颈,迫使日韩企业ITO靶材大幅降价,最终在2-6HJT电池ITO靶材市场需求分析2023年2024年2025年2026年坐标轴标题靶材年复合增长率30&HJT电池ITO靶材需求分析系列 1
6、系列 2系列 3据不完全统计,预计到2023年底异质结电池达产规模约为20GW,对ITO靶材的需求约为330吨/年。随着前期规划产能的逐步释放,2024年预计将有50GW产能投入量产,预计2024年ITO靶材需求有望突破750吨/年。预计未来市场对ITO靶材将会有30%的年复合增长率。2-7靶材成本占比与降本期待53%25%16%6%HJT电池成本构成硅片浆料折旧及辅材靶材HJT电池成本中靶材占6%,在HJT降本路径中占据一定比重在ITO靶材降本中,阿石创将依靠自身的资本优势,以规模化产业布局,来实现客户端的降本需求,随着市占率的增加,将会给当前HJT电池客户更多靶材选择。带来市场端实实在在的
7、降本。在低铟、无铟靶材的降本思路上,阿石创已有技术创新与突破。预计将给行业带来0.015-0.02元/W的降本期待。2-8ITO靶材ITO 非晶电池片生产一般采用90:10和97:3 正反两种比例的 ITO靶材进入微晶时代后,异质结电池片生产对TCO靶材的要求越来越高,需要具备更高的光学和电学性能。为此我司依靠在光学薄膜沉淀多年技术积累,通过改进靶材元素配比,和致密性来对靶材进行升级,已实现量产高性能适合基于微晶工艺的高性能TCO靶材。阿石创通过扎实的工艺技术实现了ITO靶材“三高、一低、一大”(即高密度、高纯度、高均匀性、低电阻、大尺寸)。靶坯最大尺寸可达1500mm能将当前异质结量产TCO
8、靶材实现2拼接,减少接缝太多带来的溅射结瘤问题,提高成膜质量。2-9ITO薄膜性能薄膜性能-光电性能数据光电性能数据1成膜指标(ITO 90:10)Thickness20-135nmP.D3W/CM2Anneal240Thickness(nm)SheetResistance(/)T%(450)T%(550)T%(650)Avg.T%(400-800)20130.993.596.597.696.24054.588.292.995.593.16035.387.691.294.492.28024.891.590.893.392.710019.796.192.492.993.812016.596.094.892.993.915013.887.495.192.991.6以90:10配比为例,不同波段透过率与膜层厚度密切相关2-10ITO薄膜性能薄膜性能-光电性能数据光电性能数据2相同成膜条件下,锡含量越少则电阻率约小,导电性越好2-11 ITO薄膜性能薄膜性能-光电性能数据光电性能数据3相同成膜条件下,锡含量越多则透过率越高2-12 TCO薄膜方向薄膜方向2-13TCO薄膜方向薄膜方向感谢聆听!愿景:成为全球一流的PVD镀膜方案提供商