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1、 1/58 请务必阅读正文之后的免责条款部分 专 题 半导体行业半导体行业 报告日期:2020 年 4 月 13 日 半导体材料半导体材料光刻胶光刻胶投资宝典投资宝典 光刻胶行业深度报告 行 业 公 司 研 究 半 导 体 行 业 :孙芳芳 执业证书编号: S01 : : 行业行业评级评级 半导体 看好 Table_relateTable_relate 相关报告相关报告 1半导体设备/材料迎来国产代替窗口 期2020.03.12 2 【浙商电子行业点评】GaN(氮化镓) 市场的爆发前夜2020.02.16 3 智能医疗: 疫情过后的物联网新机会 2
2、020.02.05 4半导体行业处于上升轨道,各环节国 产替代有序进行2018.02.06 5 一 周 行 业 要 闻 及 观 点 传 递 8.21-8.272017.08.28 报告撰写人: 孙芳芳 数据支持人: 孙芳芳、胡硕秋 报告导读报告导读 疫情导致日本短期“封城” ,光刻胶迎来国产替代良机。 投资要点投资要点 催化剂:疫情导致日本“封城” ,放大光刻胶供需矛盾催化剂:疫情导致日本“封城” ,放大光刻胶供需矛盾 1、国内供给端减少:国内供给端减少:日本为半导体材料供应大国,疫情影响进出口贸易,将 有可能导致“断链”危机。 2、国内需求端复苏:国内需求端复苏:国内疫情控制效果明显,各个晶
3、圆厂已经进入全面复工 复产期,需求端全面复苏。 3、供需矛盾被放大:供需矛盾被放大:日本“封城”是催化剂,放大国内光刻胶供需矛盾。国 内需求增加,国外供给减少,光刻胶来代替窗口期。 新工厂是机会,新工厂是机会,光刻胶光刻胶迎来代替窗口迎来代替窗口 1、 新建晶圆厂投产:新建晶圆厂投产:2020 年2022 年是中国大陆晶圆厂投产高峰期,以长 江存储,长鑫存储等新星晶圆厂和以中芯国际,华虹为代表的老牌晶圆厂正处 于产能扩张期,未来 3 年将迎来密集投产。 2、 光刻胶光刻胶代替窗口期:代替窗口期:根据光刻胶的特性来推断,新建晶圆厂将是光刻胶国 产代替的主要发展企业。 国内新建晶圆厂的密集投产为光
4、刻胶打开了最佳代替 窗口。 自中低端突破自中低端突破,将迎来百亿市场空间,将迎来百亿市场空间 1、 中低端产品首先形成突破中低端产品首先形成突破: 国内面板光刻胶与中低端半导体光刻胶已经实 现技术突破并逐步形成产能。 2、 中中高高端产品端产品技术逐渐成熟技术逐渐成熟:在各项国家政策与“02 专项”等扶持项目的 支持下,中国企业在中高端半导体光刻胶领域也取得了显著进展。 3、 上上百亿百亿市场市场空间空间将将到来:到来:根据国内晶圆厂的建设速度和规划,预计 2022 年国内半导体光刻胶市场将会是 2019 年的两倍,约 55 亿元。届时世界面 板产能持续向中国转移,国内面板光刻胶市场需求预计约
5、为 105 亿元。二 者合计将带来约 160 亿元的市场空间。 关注关注光刻胶光刻胶标的标的 从其他半导体化学品业务切入光刻胶领域的国内厂商有雅克科技、南大光电、 上海新阳等;以面板材料为基础,切入面板光刻胶领域,并计划向半导体光刻 胶领域扩展的国内厂商有晶瑞股份,容大感光,飞凯材料等。此外,光刻胶领 域也有许多优秀的非上市公司,比如北京科华微,北旭电子,江苏博砚,中电 彩虹等。 风险提示:风险提示:1)客户进展较慢;)客户进展较慢;2)价格下降;)价格下降;3)景气度下行)景气度下行 行业催化剂:行业催化剂: 1)晶圆厂建设超预期;)晶圆厂建设超预期;2)国产替代率超预期)国产替代率超预期
6、证 券 研 究 报 告 table 半导体行业专题半导体行业专题 2/58 请务必阅读正文之后的免责条款部分 正文目录正文目录 1. 光刻胶是电子制造重要材料光刻胶是电子制造重要材料 . 7 1.1. 光刻胶广泛应用于电子行业 . 7 1.2. 光刻胶是半导体制程技术进步的“燃料” . 11 1.3. 光刻胶是面板制造的重要原料 . 17 1.4. PCB 是光刻胶应用的场景之一 . 20 2. 光刻胶市场潜力巨大光刻胶市场潜力巨大 . 22 2.1. 中国半导体材料市场稳步增长 . 22 2.2. 光刻胶是重要半导体材料 . 23 2.3. 政策引导,半导体材料将重点发展 . 24 2.4.
7、 中国光刻胶市场空间广阔 . 25 2.4.1. 中国大陆晶圆厂产能持续扩张 . 25 2.4.2. 中国大陆显示面板市场方兴未艾 . 27 2.4.3. 中国占据全球 PCB 产能半壁江山 . 28 2.4.4. 产能扩张推动光刻胶市场规模增长 . 29 3. 光刻胶材料制备壁垒高光刻胶材料制备壁垒高. 32 3.1. 技术壁垒 . 32 3.2. 客户认证壁垒. 33 3.3. 规模和资金壁垒 . 33 3.4. 资质壁垒 . 33 4. 光刻胶国产替代势在必行光刻胶国产替代势在必行 . 34 4.1. 全球光刻胶市场寡头垄断 . 36 4.1.1. 日本合成橡胶(JSR) . 36 4.
8、1.2. 东京应化 . 37 4.1.3. 罗门哈斯-陶氏-杜邦 . 37 4.1.4. 信越化学 . 38 4.1.5. 富士胶片 . 38 4.2. 中国光刻胶公司 . 39 4.3. 光刻胶相关 A 股上市公司 . 40 4.3.1. 南大光电 . 40 4.3.2. 雅克科技 . 42 4.3.3. 上海新阳 . 43 4.3.4. 晶瑞股份 . 44 4.3.5. 容大感光 . 46 mNpQpPtPnQqOmOpOxPnMtQ9PcMbRsQmMoMnNiNnNqMlOmNmQ8OpPwPuOmPrRvPmMzR table 半导体行业专题半导体行业专题 3/58 请务必阅读正文之
9、后的免责条款部分 4.3.6. 飞凯材料 . 48 4.3.7. 永太科技 . 49 4.3.8. 江化微 . 50 4.3.9. 强力新材 . 51 4.4. 光刻胶相关非上市公司 . 53 4.4.1. 北京科华微电子 . 53 4.4.2. 北旭电子 . 54 4.4.3. 江苏博砚 . 55 4.4.4. 中电彩虹 . 55 A 股相关光刻胶上市公司股相关光刻胶上市公司 . 57 图表目录图表目录 图 1:全球光刻胶市场结构 . 7 图 2:中国本土光刻胶企业生产结构 . 7 图 3:光刻胶胶涂工艺 . 8 图 4:液晶屏显彩色滤光膜制造有赖于彩色光刻胶 . 8 图 5:感光阻焊油墨用
10、于 PCB . 8 图 6:正性光刻胶显影示意图 . 9 图 7:负性光刻胶显影示意图 . 9 图 8:光聚合反应示意图 . 9 图 9:光分解反应示意图 . 9 图 10:光交联反应示意图 . 10 图 11:化学放大光反应示意图 . 10 图 12:光刻胶分类总结 . 10 图 13:一种 NMOS 三极管集成电路结构的制造过程 . 11 图 14:静态旋转法涂胶过程示意图 . 12 图 15:合格与不合格的静态涂胶过程示意图 . 12 图 16:动态喷洒法涂胶过程示意图 . 12 图 17:瑞利公式中各个参数的意义 . 13 图 18:德国光谱科学家约瑟夫 弗劳恩霍夫 . 13 图 19
11、:典型的浸没光刻系统 . 15 图 20:双重光刻使加工分辨率翻倍 . 15 图 21:不合格的双重曝光 . 16 图 22:合格的双重曝光 . 16 图 23:TFT-LCD 中阵列与滤光片结构 . 17 图 24:TFT-LCD 中 TFT 单元的构造 . 18 图 25:TFT-LCD 中 TFT 单元的构造 . 18 图 26:TFT-LCD 中 RGB 彩色滤光片和黑色矩阵膜的垂直结构 . 18 table 半导体行业专题半导体行业专题 4/58 请务必阅读正文之后的免责条款部分 图 27:黑色矩阵膜制备流程示意图 . 19 图 28:彩色滤光膜制备流程示意图 . 19 图 29:双层 ITO 平面结构示意图 . 19 图 30:单层 ITO 平面结构示意图 . 19 图 31:双层 ITO 截面结构示意图 . 20 图 32:单层 ITO 截面结构示意图 . 20 图 33:PCB 光刻胶应用示意图 . 20 图 34:干膜光刻胶 . 21 图 35:湿膜光刻胶 . 21 图 36:全球半导体材料销售额及增速(单位:十亿美元) .