【研报】电子行业深度报告：光刻胶研究框架-210527（84页）.pdf

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【研报】电子行业深度报告：光刻胶研究框架-210527（84页）.pdf

1、光聚合型光刻胶通常是烯丙基单体，当暴露于光线下时它会产生自由基，然后引发单体的光聚合反应以生成聚合物。光聚合型光刻胶通常被用于负性光刻胶，例如甲基丙烯酸甲酯。光分解型光刻胶是一种在光下产生亲水产物的光刻胶，通常被用于正性光刻胶。例如，叠氮化物醌、重氮萘醌(DQ)。光交联型光刻胶在暴露于光下时，可以将各链进行互联，产生一个不溶性的网络。光交联光刻胶通常被用于负性光刻胶。目前，在显示面板行业，光刻胶主要应用于TFT-LCD阵列制造，滤光片制造和触摸屏制造三个应用领域。其中，TFT-LCD阵列和滤光片都是LCD面板结构的组成部分，触摸屏则是以触摸控制为目的的功能单元。面板显示行业主要使用

2、的光刻胶有彩色及黑色光刻胶、LCD触摸屏用光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等。在光刻和蚀刻生产环节中，光刻胶涂覆于晶体薄膜表面，经曝光、显影和蚀刻等工序将光罩(掩膜版)上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版对应的几何图形。彩色光刻胶和黑色为光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，占彩色滤光片成本的27%左右。彩色滤光片是TFT-LCD实现色彩显示的关键器件，占面板成本的14%-16%。由于TFT整列的结构比较简单且标准化，以及TFT阵列对于尺寸的要求比先进集成电路低很多。因此一般g线光刻胶就可以满足要求。在触屏应用中，光刻工艺用于ITO sensor的制造。ITO sensor是通过将ITO材料按照

3、特定的图案，涂在玻璃或者Film上，然后贴在一层厚的保护玻璃上得到的。 PCB光刻胶主要使用的有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、感光油墨等。 PCB加工所用油墨主要分为：线路油墨、阻焊油墨、字符油墨。干膜和湿膜的区别主要在于涂敷方式。湿膜光刻胶直接以液态的形式涂敷在待加工基材的表面;干膜光刻胶则是由预先配制好的液态光刻胶涂布在载体薄膜上，经处理形成固态光刻胶薄膜后再被直接贴附到待加工基材上。 PCB用干膜与湿膜光刻胶各有特点。从总体上来说，湿膜具有分辨率高，成本低廉，显影与刻蚀速度更快等优势。因此，在PCB应用中，湿膜光刻胶正逐渐实现对干膜光刻胶的替代。但是干膜光刻胶在特定应用场景下具有湿膜光刻胶不具备的特点。比如在淹孔加工场景中，湿膜光刻胶会浸没基材上的孔洞，造成后期加工和清理的不便。而干膜光刻胶就不存在这个问题。

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