电子行业深度报告：光刻胶研究框架-20210527（82页）.pdf

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1、目前，在显示面板行业，光刻胶主要应用于TFT-LCD阵列制造，滤光片制造和触摸屏制造三个应用领域。其中，TFT-LCD阵列和滤光片都是LCD面板结构的组成部分，触摸屏则是以触摸控制为目的的功能单元。面板显示行业主要使用的光刻胶有彩色及黑色光刻胶、LCD触摸屏用光刻胶、TFT-LCD正性光刻胶等。在光刻和蚀刻生产环节中，光刻胶涂覆于晶体薄膜表面，经曝光、显影和蚀刻等工序将光罩(掩膜版)上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版对应的几何图形。彩色光刻胶和黑色为光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料，占彩色滤光片成本的27%左右。彩色滤光片是TFT-LCD实现色彩显示的关键器件，占面板成本的14%-16%。由于

2、TFT整列的结构比较简单且标准化，以及TFT阵列对于尺寸的要求比先进集成电路低很多。因此一般g线光刻胶就可以满足要求。在触屏应用中，光刻工艺用于ITO sensor的制造。ITO sensor是通过将ITO材料按照特定的图案，涂在玻璃或者Film上，然后贴在一层厚的保护玻璃上得到的。PCB光刻胶主要使用的有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、感光油墨等。PCB加工所用油墨主要分为:线路油墨、阳焊油墨、字符油墨。干膜和湿膜的区别主要在于涂敷方式。湿膜光刻胶直接以液态的形式涂敷在待加工基材的表面;干膜光刻胶则是由预先配制好的液态光刻胶涂布在载体薄膜上，经处理形成固态光刻胶薄膜后再被直接贴附到待加工基材上。PC

3、B用干膜与湿膜光刻胶各有特点。从总体上来说，湿膜具有分辨率高，成本低廉，显影与刻蚀速度更快等优势。因此，在PCB应用中，湿膜光刻胶正逐渐实现对干膜光刻胶的替代。但是干膜光刻胶在特定应用场景下具有湿膜光刻胶不具备的特点。比如在淹孔加工场景中，湿膜光刻胶会浸没基材上的孔洞，造成后期加工和清理的不便。而干膜光刻胶就不存在这个问题。光刻胶的性能指标包含分辨率、对比度、灵敏度、粘滞性/粘度、粘附力、抗蚀性、表面张力。优秀的光刻胶必须具备高分辨度、高敏感度和高对比度，以保证能将精密的图像从掩模版转移到硅片上。业内描述为分辨度、对比度、敏感度。另外，光刻胶的技术要求高，所有的技术指标都必须达标，因此除上述三个硬性指标外，好的光刻胶还必须具有强蚀刻阻抗性、高纯度、低溶解度、高粘附性、小表面张力、低成本、长寿命周期以及较高的玻璃化转换温度。

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