全球主要的PVD设备供应商以及设备特点 原图定位 PVD 的基本原理是在电场和磁场的双重作用下,将气体 成等离子体,再将高能粒子(即 +Ar )进行加速以获得高能量,随后轰击靶材(阴极)造成其表面的原子脱离原晶格逸出,逸出的溅射粒子最后沉积到衬底表面与表面的氧原子发生反应而形成的最终的 TCO 薄膜。TCO 薄膜的质量直接影响电池横向电荷的收集情况,因此需要控制薄膜的透明度和电阻率。目前行业的 PVD 设备供应商有德国的冯阿登纳,瑞士的梅耶博格,德国的新格拉斯和中国的钧石能源、中国的捷造光电等。