掩模版按技术工艺分类 原图定位 EUV掩膜版是指在 EUV光刻期间使用的新颖掩膜版。由于 EUV 的波长很短,容易被所有材料吸收,因此不能使用像透镜这样的折射元件而是根据布拉格定律通过多层(ML)结构来反射光束。EUV 掩膜版常用于 7nm、5nm 等先进制程,所以 EUV 掩膜版的工艺问题会非常难以发现并且十分致命。