芯源微KS-FT200/300涂胶显影机 原图定位 显影机:用显影液溶解正性光刻胶的曝光区(负性光刻胶为非曝光区)。将硅片冷却至 23℃左右(与显影液温度相同),与显影液发生化学反应,曝光区溶解从而形成设计好的三维图形。