芯源微KS-FT200/300前道8/12寸涂胶显影机 原图定位 涂胶显影设备是光刻工艺中除光刻机外的另一核心设备。涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套使用的涂胶、烘烤及显影设备,包括涂胶机、喷胶机和显影机,在8 英寸及以上晶圆的大型生产线上,此类设备一般都与光刻设备联机作业,组成配套的圆片处理与光刻生产线,与光刻机配合完成精细的光刻工艺流程。作为光刻机的输入(曝光前光刻胶涂覆)和输出(曝光后图形的显影),涂胶显影机的性能不仅直接影响到细微曝光图案的形成,其显影工艺的图形质量和缺陷控制对后续诸多工艺(诸如蚀刻、离子注入等)中图形转移的结果也有着深刻的影响。