逻辑制程节点升级、先进制程产能提升带来新前驱体材料需求和规模增长。半导体制造行业始终在追求提高性能的同时降低成本,新的器件结构、新的沉积材料对 CVD 特别是ALD 环节带来新的机遇。举例来说,铪(HfO2)仍然是栅极 High-k 主要材料,同时氧化镧(La2O3)作为掺杂材料也将有所贡献,此外由于更多金属化层的需求,钴前驱体在20nm 及以下逻辑节点需求增长迅速。雅克核心子公司 UP Chemical 是韩国存储芯片龙头 SK 海力士核心供应商,同时进入合肥长鑫、长江存储核心供应链,将充分受益于行业成长。
逻辑制程节点升级、先进制程产能提升带来新前驱体材料需求和规模增长。半导体制造行业始终在追求提高性能的同时降低成本,新的器件结构、新的沉积材料对 CVD 特别是ALD 环节带来新的机遇。举例来说,铪(HfO2)仍然是栅极 High-k 主要材料,同时氧化镧(La2O3)作为掺杂材料也将有所贡献,此外由于更多金属化层的需求,钴前驱体在20nm 及以下逻辑节点需求增长迅速。雅克核心子公司 UP Chemical 是韩国存储芯片龙头 SK 海力士核心供应商,同时进入合肥长鑫、长江存储核心供应链,将充分受益于行业成长。