工艺流程:IBC 电池工艺的关键问题,是如何在电池背面制备出呈叉指状间隔排列的 P 区和 N 区,以及在其上面分别形成金属化接触和栅线。其核心工艺是如何在背面制备PN结,常见的定域掺杂的方法包括掩膜法。其中光刻掩膜法是通过光刻的方法在掩膜上形成需要的图形,这种方法的成本高,不适合大规模生产;掩膜法成本较低,需要两步单独的扩散过程来分别形成 P 型区和 N 型区。帝尔激光拟采用激光掺杂的形式进行定域掺杂,有望成为产业链主流工艺。
工艺流程:IBC 电池工艺的关键问题,是如何在电池背面制备出呈叉指状间隔排列的 P 区和 N 区,以及在其上面分别形成金属化接触和栅线。其核心工艺是如何在背面制备PN结,常见的定域掺杂的方法包括掩膜法。其中光刻掩膜法是通过光刻的方法在掩膜上形成需要的图形,这种方法的成本高,不适合大规模生产;掩膜法成本较低,需要两步单独的扩散过程来分别形成 P 型区和 N 型区。帝尔激光拟采用激光掺杂的形式进行定域掺杂,有望成为产业链主流工艺。