1、 1/29 请务必阅读正文之后的免责条款部分 覆 盖 报 告 至纯科技至纯科技(603690) 报告日期：2020 年 2 月 18 日 至纯科技至纯科技: :冉冉升起冉冉升起的的清洗设备新星清洗设备新星 至纯科技覆盖报告 行 业 公 司 研 究 半 导 体 行 业 ：孙芳芳 执业证书编号：S01 ： ： ：联系人：蒋鹏 ： ： 核心观点核心观点 晶圆厂资本开支超预期+亮剑高端清洗设备=至纯科技业绩迎来爆发 投资要点投资要点 下游资本开支超预期下游资本开支超预期,采购拐点来临采购拐点来临 1、中芯国际资本开支超预期中芯国际资

2、本开支超预期：中芯国际 2020 年资本开支预计为 31 亿美元， 远超预期的 25 亿美元，资本开支超出预期。 2、全球全球设备出货量拐点来设备出货量拐点来临：临：SEMI 公布 2019 年 10/11/12 月的设备出货金额， 分别为 20.8 亿美元/21.2 亿美元/24.9 亿美元，同比增长 2.5%/9.1%/17.8%。设备 出货金额在连续下跌 12 月后，出现连续三月上涨，拐点已至。 至纯科技至纯科技,进军进军高端高端半导体清洗设备半导体清洗设备 1、新增新增：半导体清洗设备半导体清洗设备业务业务：至纯科技通过战略规划，公司业务在高纯系 统的基础上，新增半导体清洗设备业务，进

3、军半导体装备行业。 2、亮剑：亮剑：高端高端单片式清洗单片式清洗设备设备：公司在实现槽式清洗设备量产之后，积极研 发高端单片式清洗设备，目前公司以 8-12 腔产品为主，预计 2020 年出货。 3、扩产扩产：启东启东制造制造基地基地扩产能扩产能：公司在 2019 年中旬启用启东制造基地，扩大 产能以满足下游清洗设备需求，一期和二期项目产能各为 48 台/年清洗设备， 目前一期项目正处于产能爬升阶段，预计 2020 年末可以达到满产状态。 盈利预测及估值盈利预测及估值 我们预计公司2019-2021年实现的净利润为1.19/1.81/2.61亿元， 对应摊薄后EPS 分别为 0.46/0.70

4、/1.02 元/股。给予“增持”评级。 风险提示：风险提示：1 1） ，下游晶圆厂建设不及预期；） ，下游晶圆厂建设不及预期； 3 3） ，核心原材料涨价） ，核心原材料涨价 股价催化剂：股价催化剂：1 1） ，半导体清洗设备国产代替加速） ，半导体清洗设备国产代替加速；2 2） ，单片式清洗设备出货） ，单片式清洗设备出货 财务摘要财务摘要（摊薄后）（摊薄后） （百万元）（百万元） 2018A 2019E 2020E 2021E 主营收入 674 1321 1852 2443 (+/-) 83% 96% 40% 32% 净利润 32 119 181 261 (+/-) -36% 277% 5

5、2% 45% 每股收益（元） 0.15 0.46 0.70 1.02 P/E 287 93 61 42 评级评级 增持增持 上次评级 首次评级 当前价格 ￥43.00 LastQuaterEpsLastQuaterEps 单季度业绩单季度业绩 ( (摊薄摊薄) ) 元元/ /股股 3Q/2019 0.12 2Q/2019 0.11 1Q/2019 0.04 4Q/2018 0.03 公司简介公司简介 至纯科技是一家以高纯系统和半导体 清洗设备为主要产品的，自主设计和销 售公司 Table_relateTable_relate 相关报告相关报告 报告撰写人： 孙芳芳 数据支持人： 蒋鹏 证 券

6、研 究 报 告 0% 50% 100% 150% 02/18/19 04/18/19 06/18/19 08/18/19 10/18/19 12/18/19 02/18/20 至纯科技上证综合指数 至纯科技至纯科技(603690)(603690)覆盖报告覆盖报告 2/29 请务必阅读正文之后的免责条款部分 正文目录正文目录 1. 至纯科技：清洗设备新星至纯科技：清洗设备新星 . 5 1.1. 半导体业务是公司全新增长点 . 5 1.2. 把握机遇进军半导体清洗设备 . 5 1.3. 公司股权稳定，适合长期发展 . 6 2. 高纯系统：市场供不应求高纯系统：市场供不应求 . 7 2.1. 国际领

7、先的高纯系统解决方案商 . 7 2.2. 高纯系统壁垒高,竞争者难以进入 . 8 2.3. 高纯系统是晶圆制造产业的基石 . 8 2.4. 晶圆厂产能扩张,驱动“量”的提升 . 10 2.4.1. 产业东移,晶圆厂迎来建设高峰 . 10 2.4.2. 至纯科技完美换挡半导体产业 . 12 2.4.3. 晶圆厂建设是高纯业务驱动力 . 13 2.5. 先进制程驱动高纯系统“价”升高 . 16 3. 清洗设备：打进高端市场清洗设备：打进高端市场 . 16 3.1. 半导体行业上升，设备需求增加 . 17 3.2. 至纯科技对标国际清洗巨头 DNS . 18 3.2.1. 清洗设备：芯片制造核心设备

8、 . 18 3.2.2. 清洗设备壁垒高筑，进入较难 . 20 3.2.3. 至纯科技对标 DNS，东京电子 . 21 3.3. 制程迭代驱动清洗设备“量”增加 . 21 3.4. 特征尺寸驱动清洗设备“价”提升 . 22 3.5. 扩充产能,启东制造基地投入使用 . 23 4. LED：Mini-LED 推动增长推动增长 . 24 4.1. Mini-LED 开始爆发,迎来行业升级 . 24 4.2. LED 产线迭代,高纯系统需求增加 . 25 5. 光伏业务：需求持续增长光伏业务：需求持续增长 . 26 6. 盈利预测与估值盈利预测与估值 . 27 6.1. 关键假设和业绩拆分 . 27

9、 6.2. 投资建议及估值 . 27 图表目录图表目录 图 1：至纯科技主要发展历史 . 5 图 2：至纯科技主要业务占比 . 5 rQsNrRnRqNsMoMqRtMyRqP6M9R8OoMmMsQrRjMoOoMeRsQnR6MrRvNMYqNsQvPnRoO 至纯科技至纯科技(603690)(603690)覆盖报告覆盖报告 3/29 请务必阅读正文之后的免责条款部分 图 3：20132018 年至纯科技主要业务营业额（单位:百万元） . 5 图 4：20132018 至纯科技营业收入（单位：万元） . 6 图 5：20132018 至纯科技毛利率和净利率 . 6 图 6：至纯科技股权关系

10、和主要子公司 . 6 图 7：高纯系统在半导体晶圆厂中的作用 . 7 图 8：至纯科技所处行业上下游关系 . 7 图 9：高纯系统主要壁垒 . 8 图 10：台积电和中芯国际洁净室 . 8 图 11：晶圆制造缺陷 . 9 图 12：国际标准洁净室等级 . 9 图 13：美国联邦标准洁净室等级 . 9 图 14：晶圆制造各个步骤对洁净室的要求（美国联邦标准） . 9 图 15：高纯系统在晶圆制造中的作用 . 10 图 16：全球半导体产业转移路径 . 10 图 17：半导体产业发展路径 . 11 图 18：中国大陆半导体贸易占比 . 11 图 19：世界主要半导体公司在中国销售额（包含港澳台）

11、. 11 图 20：中国大陆半导体各个环节自给率 . 12 图 21：20102020F 中国大陆晶圆厂投资额(单位:亿美元) . 12 图 22：大基金一期投资占比(单位:%) . 12 图 23：20132018 至纯科技各项业务占比 . 13 图 24：20132018 至纯科技各项业务营业额（单位：百万元） . 13 图 25：台积电，台联电，中芯国际制程研发进度 . 13 图 26：台积电，中国大陆和中芯国际 2018 年产能 . 13 图 27：20002024F 全球晶圆厂产能增加量（单位：百万片每年，200mm 等效晶圆） . 14 图 28：华为 Mate30 pro 手机拆

12、解. 14 图 29：中国大陆 12 寸晶圆厂分布 . 15 图 30：中国大陆 8 寸晶圆厂分布 . 15 图 31：高纯系统主要厂商 . 16 图 32：高纯系统占晶圆厂投资的比例 . 16 图 33：至纯科技槽式清洗设备 . 17 图 34：至纯科技单片式清洗设备 . 17 图 35：至纯科技单片晶圆清洗设备性能参数 . 17 图 36：世界半导体销售额增速（单位：%） . 17 图 37：半导体产业上升周期的代表产品 . 18 图 38：全球半导体设备销售额（单位:十亿美元） . 18 图 39：全球主要地区半导体销售占比（单位:%） . 18 图 40：清洗设备在半导体制造中的应用

13、. 19 图 41：清洗步骤在制造中的占比（单位：%） . 19 图 42：清洗机台所占比例（单位：%） . 19 图 43：晶圆清洗设备分类 . 20 图 44：湿法清洗和干法清洗的优缺点 . 20 图 45：槽式清洗和单片清洗 . 20 图 46：槽式清洗和单片清洗的优缺点 . 20 至纯科技至纯科技(603690)(603690)覆盖报告覆盖报告 4/29 请务必阅读正文之后的免责条款部分 图 47：清洗设备在半导体制造中的应用 . 20 图 48：DNS SU-3300 单片清洗设备（24 个反应腔） . 21 图 49：世界清洗设备市占率占比（单位：%） . 21 图 50：不同制程的清洗步骤 . 22 图 51：晶圆厂设备种类占比 . 22 图 52：二维 MOS 结构 . 22 图 53：三维 MOS 结构 . 22 图 54：槽式清洗设备的缺点 . 23 图 55：槽式清洗设备和单片清洗设备市场份额（单位：百万美元） . 23 图 56：至纯科技启东制造基地生产的清洗设备 .