按两方专利份额的区间统计2016~2021年中国及科技发达国家专利覆盖的技术焦点占比 原图定位

图4-4按两方专利份额的区间统计了中国及科技发达国家专利覆盖的技术焦点数量与份额的分布情况。美国相对来说在各份额区间占比相对均衡；美国两方专利在技术焦点中的份额20%~30%这一区间的技术焦点比例最高，为25.6%；没有专利布局的区间的比例最低，为0.8%。日本和德国在各区间的分布趋同，均在两方专利份额0~10%的区间的比例最高，分别达到为35.6%和45.5%；区间>50%的比例最低，分别为2.7%和0.4%；没有专利布局的区间比例分别为9.3%和14.0%。中国、韩国和法国各区间的分布基本一致，50%以上的技术焦点在0%~10%这一区间，三国比例分别为50.8%，50.6%和61.2%；30%左右的技术焦点没有专利布局，三国比例分别为27.3%、34.2%和24.7%；均在区间>50%的比例最低，三国比例分别为0.8%，0.7%和0.1%。