英特尔推出晶体管背部供电方式 原图定位 3. 光刻技术的进步:光刻技术一直是半导体制造的核心。通过采用 EUV 技术,即使用 X 射线 将光波长从 193 纳米降至 13.5 纳米,我们取得 了显著的进展。在 2023 年底,已