光刻机市场由ASML主导(2019年) 原图定位 光刻机厂商集中度高,ASML 地位不可撼动;国内技术水平差距巨大,SMEE目前可量产 90nm 工艺节点光刻机。全球最大的光刻机厂商为荷兰的 ASML,市占率超过 80%,在 EUV 领域处于完全垄断的地位。除 ASML 以外,日本佳能(CANON)、尼康(NIKON)也是国外知名的光刻机生产商。ASML 可以覆盖所有档次光刻机产品,尼康、佳能的产品分别仅停留在了 28nm 和 90nm 的节点上。国内集成电路产业起步较晚,在光刻机制造领域与国际差距巨大。根据电子工程世界资料,近年来上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)通过积极研发,已实现 90nm 节点光刻机的量产,并正在研究适用于 65nm 节点的设备。SMEE 主要有两个系列的产品:1)600 系列步进扫描光刻机,可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm 关键层和非关键层的光刻工艺需求,用于 8 寸线或 12 寸线的大规模工业生产;2)500 系列步进光刻机,可满足 IC 后道先进封装的光刻工艺,如晶圆级封装(Fan-In/Fan-Out WLP)的重新布线(RDL),倒装(FC)工艺中常用的金凸块(Gold Bump)、焊料凸块(Solder Bump)、铜柱(Copper)等,也可通过选择背面对准满足 MEMS 和 2.5D/3D 封装的TSV 光刻工艺需求。