IC制造工艺与洁净室 原图定位 洁净室是半导体制造业的重要环节,直接决定产品良率。洁净室主要用于去除空气中的颗粒物和化学物质,IC产业链的主要环节基本都需要在洁净室中完成,且对洁净度的要求较高。通常半导体洁净室所管控的污染物直径相当于半线宽,即 5nm制程要求管控 2.5nm污染物,因此先进制程持续发展将对洁净度提出更高要求。