硅基器件部分材料等离子体刻蚀常用化学刻蚀剂及辅助气体 原图定位

C4F8 一种化学性质稳定且用途十分广泛的氟碳类特种气体。在集成电路制造的刻蚀工艺和清洗工艺中有着广泛的应用。随着电子产业的快速发展，电子工业中，高纯八氟环丁烷的需求日益增加，尤其在深硅刻蚀、低介电薄膜刻蚀和原子尺度刻蚀工艺等领域有着巨大的潜在应用前景。例如，在具有高深宽比的深硅刻蚀工艺中，它具有控制精度高、大区域 好、刻蚀垂直特性好、材料损耗低等优点，能够满足未来集成电路元器件尺寸小型化、功能性增强、存储能力增大的发展要求。