2022年全球半导体光刻胶需求以ArF和KrF为 原图定位

半导体光刻胶需求结构方面，ArF和 KrF占据主导地位。根据智研咨询的统计数据，2022年全球半导体光刻胶需求结构较为集中，其中 ArF和 KrF光刻胶需求占比居前，分别为 38%和 34%。其次为 G/I线和 ArFi光刻胶，占比分别为 16%和 10%。EUV占比最小，仅 1%。由于EUV光刻胶主要用于 7nm及更小的逻辑芯片制程节点，未来随着相关技术的研发升级，预计 EUV 市场占比将持续提升。我国光刻胶 2022年需求结构与全球基本保持一致，ArF 和 KrF 光刻胶也是需求最旺盛的两个品种，占比分别为 47%和 37%。其次为 I线光刻胶，占比为 11%。紫外负胶和 G线光刻胶需求占比最低，仅为 5%。