黎明院所用吸附——低温精馏生产工艺流程 原图定位 而除了四氟化碳以外,公司在另一种蚀刻气体六氟化硫方面也同样有所布局。六氟化硫主要用于预蚀刻步骤中以除去单晶硅上的氧化层。在平板显示领域,作为清洗剂,六氟化硫可用于去除玻璃基板上的沉积层(包括半导体层和氮化硅层)和清洗蚀刻工艺之后的反应腔。由于六氟化硫在钨的回刻方面有独特的优势,虽然其蚀刻速度低于四氟化碳,但在集成电路中仍有一定份额。公司是国内最早从事六氟化硫研发的企业,亦是国内仅有的高纯度六氟化硫研制企业。