一款新型MOSFET的结构设计及其加工工艺 原图定位

与平面工艺、特别是光刻工艺相辅相成。这种设计与工艺互相依存的特征，决定了早期半导体公司需要将设计和工艺能力整合起来开发新的产品，因此，IDM 模式是当时的主流。