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1、 20232023 年年 0909 月月 2222 日日 光刻胶光刻胶原料主业成熟发展原料主业成熟发展，半导体领域，半导体领域再应用创再应用创新新第二增长第二增长 强力新材强力新材（300429.SZ300429.SZ）公司深度报告公司深度报告 买入买入(首次首次)投资要点投资要点 分析师：王海明分析师：王海明 S03 基本数据基本数据 20232023-0909-2121 当前股价（元）10.44 总市值（亿元）54 总股本（百万股）515 流通股本（百万股）376 52 周价格范围（元）7.23-12.47 日均成交额（百万元）102.62 市场表现市场表现 资料来源

2、：Wind，华鑫证券研究 相关研究相关研究 1、强力新材（300429）：光刻胶材料核心厂商，切入半导体领域引第二增长曲线2023-09-07 深耕光刻胶专用化学品领域核心企业深耕光刻胶专用化学品领域核心企业 公司成立于 2000 年，是国内少数从事光刻胶专用化学品的研发、生产和销售的企业之一，公司在该领域处于国内领先、国际先进水平。技术和产品已经覆盖了 PCB 干膜光刻胶、LCD 光刻胶、半导体光刻胶等主要光刻胶种类中的关键原材料品种，是全球光刻胶产业链中重要一环。基于公司多年的专业生产和研发经验，公司具有单体功能性评价技术、特殊纯化技术、ppb 级金属离子含量分析测试技术等系列具有竞争力的

3、研发、生产和检测技术，能够生产高性能、高洁净度的光刻胶，实现微细的电子器件线路或图形。光刻胶专用化学品占据产业链上游价值关键光刻胶专用化学品占据产业链上游价值关键 光刻胶专用化学品技术含量高且处于 PCB、面板和半导体产业的上游，其质量直接影响下游产品的质量。生产光刻胶的原料光引发剂、光增感剂、光致产酸剂和光刻胶树脂等专用化学品是体现光刻胶性能的最重要原料。PCB 光刻胶专用化学品呈现出向高性能化、环境友好型发展的趋势。LCD 光刻胶中高性能彩色光刻胶要求高感度的光引发剂。半导体光刻胶中适用于更短波长的光引发剂是技术发展的趋势。中游光刻胶制造和下游产业 PCB、LCD、半导体产业的应用需求的逐

4、渐扩大，带动产业链雏形初现，市场规模增长显著。PSPIPSPI、电镀液是、电镀液是 ChipletChiplet 封装封装核心材料核心材料 后摩尔时代，有高性能、低功耗和低成本优势的 Chiplet 技术成为延续摩尔定律的重要选择之一。Chiplet 市场规模增长迅速，预计 2035 年较 2024 年增长近 10 倍，是 2018 年规模的 88 倍。Chiplet 主流的封装方式需要通过硅通孔（TSV）进行堆叠，使用硅桥完成芯片的大面积拼接或采用中介层（Interposer）来完成芯片的连接。在 Chiplet 的封装结构中，光敏聚酰亚胺（PSPI）和电镀液是微凸点、中介层和 TSV 实现

5、信号从芯片到载板间的传递的核心材料。PSPI 是中介层里金属布线层的重要介电材料。微凸点和 TSV 涉及电镀液，金属杂质低、纯度高、洁净度高的的镀铜电镀液满足先进封装凸点电镀、TSV 电镀等工艺要求。我国 PSPI 行业起步晚，PSPI 国产替代空间巨大。国产化配套需求迫切，先进封装用电镀液市场提升空间大。盈利预测盈利预测 预测公司 2023-2025 年收入分别为 9.27、15.2、20.97 亿元，净利润分别为 0.2 亿、1.5 亿、2 亿元，当前股价对应-20-5060(%)强力新材沪深300公公司司研研究究 证证券券研研究究报报告告 证券研究报告证券研究报告

6、请阅读最后一页重要免责声明 2 诚信、专业、稳健、高效 PE 分别为 269.50/35.90/26.90 倍。先进封装受益于国产手机的进一步放量，先进封装需要用到光敏性聚酰亚胺（PSPI），公司光刻胶材料产品有望进入先进封装领域，为公司业绩赋能，给予“买入”投资评级。风险提示风险提示 行业竞争加剧的风险；新产品新技术研发的风险；公司规模扩张引起的管理风险；产品进入封装领域进展不及预期。预测指标预测指标 2022A2022A 2023E2023E 2024E2024E 2025E2025E 主营收入（百万元）主营收入（百万元）891 927 1,520 2,097 增长率（增长率（%）-14.

7、2%4.0%64.0%38.0%归母净利润（百万元）归母净利润（百万元）-93 20 150 200 增长率（增长率（%）-180.7%649.7%33.5%摊薄每股收益（元）摊薄每股收益（元）-0.18 0.04 0.29 0.39 ROEROE（%）-4.8%1.0%6.7%7.7%资料来源：Wind，华鑫证券研究 SUhUvYpZ8VkWtVtR6MdNaQtRmMnPsRfQoOvMlOpNqNbRoOxOwMqNpNxNnRrQ证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 3 诚信、专业、稳健、高效 正文正文目录目录 1、深耕光刻胶专用化学品领域核心企业.5 1.1、历史沿革

8、及股东情况.5 1.2、公司产业及业务.6 1.3、公司财务情况.8 2、光刻胶专用化学品占据产业链上游价值关键.10 2.1、光刻胶及其原料行业壁垒高.10 2.1.1、光刻胶是微制造领域最为关键性的材料.10 2.1.2、光刻胶专用化学品是体现光刻胶性能的最重要原料.14 2.2、光刻胶产业链覆盖范围广泛.16 2.2.1、上游原料高技术门槛.16 2.2.2、中游国产化替代加速.19 2.2.3、下游产业需求持续增长.23 3、PSPI、电镀液是 CHIPLET 封装核心材料.25 3.1、Chiplet 是延续摩尔定律的重要选择.25 3.2、PSPI 与电镀液是 Chiplet 实现

9、信号传递的核心材料.29 3.2.1、PSPI 作为介电材料传输信号.29 3.2.2、电镀液贯穿整个芯片制造过程.31 4、光刻胶材料核心厂商，切入半导体领域引第二增长曲线.33 5、盈利预测与估值评级.38 5.1、盈利预测.38 5.2、估值评级.40 6、风险提示.41 图表图表目录目录 图表 1：公司发展历程.5 图表 2：公司前十大股东持股比例情况.6 图表 3：公司主要产品.7 图表 4：公司 2016-2023 年 H1 营收情况.8 图表 5：公司 2016-2023 年 H1 归母净利润情况.8 图表 6：公司 2016-2023 年 H1 毛利率及净利率情况.9 图表 7

10、：公司 2016-2023 年 H1 分产品毛利率情况.9 图表 8：公司 2016-2023 年 H1 研发投入情况.10 图表 9：公司 2016-2023 年 H1 营业收入产品构成.10 图表 10：光刻胶作用原理示意图.11 图表 11：光刻胶类别.11 图表 12：PCB 光刻胶作用原理示意图.12 证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 4 诚信、专业、稳健、高效 图表 13：彩色滤光片（ColorFilter）结构简图.12 图表 14：半导体光刻胶工艺流程示意图.13 图表 15：光刻胶.14 图表 16：光刻胶的组分.14 图表 17：光刻胶产业链.16 图表

11、 18：2019-2026 年全球光刻胶行业市场规模.19 图表 19：2017-2022 年中国光刻胶市场规模及增速.20 图表 20：2017-2022 年中国光刻胶产量及增速.20 图表 21：全球光刻胶市场结构占比.20 图表 22：中国光刻胶生产结构.20 图表 23：PCB 成本结构.21 图表 24：LCD 面板成本结构.22 图表 25：彩色滤光片成本结构.22 图表 26：半导体晶圆制造材料成本结构.23 图表 27：2017-2026 年全球及中国 PCB 产值及预测.23 图表 28：2016-2025 年全球 LCD 产能趋势预测.24 图表 29：2016-2025

12、年全球 LCD 产能区域占比趋势预测.24 图表 30：2022 年全球半导体材料市场结构.25 图表 31：ITRS2.0 报告部分技术路线图.26 图表 32：Chiplet 结构示意图.27 图表 33：AMD 的 CPU 设计演进图.28 图表 34：AMD 公司使用 Chiplet 技术的 AI 芯片产品.28 图表 35：2018-2023 年 Chiplet 市场规模.28 图表 36：PSPI 应用于再布线层介电材料.29 图表 37：全球 PSPI 市场规模.30 图表 38：TSV 电镀工艺示意图.31 图表 39：2021-2027 年全球半导体用电镀液市场规模.32 图

13、表 40：2021 年全球半导体用电镀液市场结构.32 图表 41：公司光引发剂产品.34 图表 42：公司聚合物产品.34 图表 43：公司单体产品.35 图表 44：公司竞争对手.36 图表 45：2.5D 封装结构.37 图表 46：基于有源中介层的 3D 封装结构.38 图表 47：公司盈利预测及业务拆分（单位：亿元）.39 图表 48：可比公司估值（采用 2023/09/13 收盘价）.40 证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 5 诚信、专业、稳健、高效 1 1、深耕深耕光刻胶专用化学品光刻胶专用化学品领域核心企业领域核心企业 1.11.1、历史沿革及股东情况历史沿

14、革及股东情况 常州强力电子新材料股份有限公司成立于 2000 年，前身是常州市强力化工有限公司，2011 年更名为常州强力电子新材料股份有限公司。2015 年公司于深交所创业板上市。公司是一家以应用研究为导向，立足于产品自主研发创新的高新技术企业，专业从事电子材料领域各类光刻胶专用电子化学品的研发、生产和销售及相关贸易业务。公司主要产品为光刻胶专用化学品，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。公司的产品按照应用领域分类，主要有印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂及其他用途光引发剂四大类

15、。公司是国内少数从事光刻胶专用化学品的研发、生产和销售的企业之一，公司在该领域处于国内领先、国际先进水平。公司是中国感光学会辐射固化专业委员会的副理事长成员单位、日本感光性聚合物协会（TAPJ）公司法人会员。2012 年 10 月公司被评为 2012 年国家火炬计划重点高新技术企业。公司多次获得江苏省科学技术奖、高新技术成果转化项目等多个奖项誉以及江苏省认定企业中心、制造业单项冠军示范企业等多项荣誉，并获得了 ISO9001:2008 质量管理认证、ISO14001:2004 环境管理认证、OHSAS18001:2007 职业健康安全管理认证等多项管理认证。图表图表 1 1：公司：公司发展历程

16、发展历程 资料来源：公司官网，华鑫证券研究 2000常州市强力化工有限公司（旧称）成立2010成立全资子公司常州强力先端电子材料有限公司2011更名为常州强力电子新材料股份有限公司2015深交所创业板成功上市2016并购绍兴佳英感光材料科技有限公司，设立常州强力昱镭光电材料有限公司，布局OLED有机材料2017增资控股泰兴先先化工有限公司2018总部研发大楼投入运行证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 6 诚信、专业、稳健、高效 公司股权相对公司股权相对集中集中，前十大股东前十大股东亲缘关系亲缘关系显著。显著。公司控股股东、实际控制人为钱晓春、管军夫妇，分别控股 20.38%、

17、10.98%，其中钱晓春为公司董事长，是公司最终受益人。钱彬为公司实际控制人钱晓春、管军夫妇的儿子，控股 2.99%，管国勤为公司实际控制人管军的姐姐，控股 0.51%，钱瑛为公司实际控制人钱晓春的姐姐，控股 0.36%。实际控制人及其亲属合计持有公司股份 35.22%，股权相对集中。图表图表 2 2：公司前十大股东持股比例情况公司前十大股东持股比例情况 资料来源：WIND，华鑫证券研究 公司管理层拥有多年产业经验，专业背景深厚。公司管理层拥有多年产业经验，专业背景深厚。公司董事长钱晓春，高级工程师,高级经济师，2010 年以来,任中国感光学会理事,中国感光学会辐射固化专业委员会副理事长。公司

18、董事会 2/3 为博士学历，其中李军曾任日本旭化成株式会社高级研究员，刘剑文现任北京大学法学院教授，王兵现任南京大学商学院会计学系副教授，范琳历任中国科学院化学研究所副研究员，中国电工技术学会绝缘材料与绝缘技术专业委员会委员。1.21.2、公司产业及业务公司产业及业务 公司主营业务是光刻胶专用化学品的研发、生产和销售及相关贸易业务。光刻胶主要是由光引发剂、树脂以及各类添加剂等化学品成份组成的对光敏感的感光性材料，主要用于电子信息产业中印制电路板的线路加工、各类液晶显示器的制作、半导体芯片及器件的微细图形加工等领域。现代电子信息工业产业中大量运用光刻技术，光刻技术是人类迄今所能达到的尺寸最小、精

19、度最高的加工技术，光刻胶是光刻技术的关键材料。各类光刻胶专用的光引发剂、树脂等化学品是组成并影响光刻胶性能的重要原料。公司主要产品为光刻胶专用化学品，分为光刻胶用光引发剂（包括光增感剂、光致产证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 7 诚信、专业、稳健、高效 酸剂等）和光刻胶树脂两大系列。公司的产品按照应用领域分类，主要有印制电路板（PCB）光刻胶专用化学品（光引发剂和树脂）、液晶显示器（LCD）光刻胶光引发剂、半导体光刻胶光引发剂及其他用途光引发剂（非光刻胶领域使用）四大类。图表图表 3 3：公司主要产品公司主要产品 产品分类产品分类 产品用途产品用途 光引发剂系列 PCB 光

20、刻胶光引发剂 HABI 系列光引发剂广泛应用于印制电路板（PCB）制造领域干膜光刻胶体系和液态光刻胶体系中，也可用于其他光固化配方体系中。LCD 光刻胶光引发剂 PBG 系列光引发剂广泛应用于显示面板中的 RGB 光刻胶、BM 光刻胶，还可应用于半导体封装材料、有色光固化油墨、涂料和粘合剂中。半导体光刻胶光引发剂 PAG 系列光引发剂广泛应用于 i 线、KrF 线半导体光刻胶领域，还可用于半导体封装材料领域。绿色光固化引发剂 自由基光引发剂（NPI 系列）应用于光固化领域涂料、油墨、胶粘剂中，如木器涂料、塑料涂料、胶印油墨、喷墨打印油墨等。阳离子光引发剂（PAG 系列）应用于光固化领域涂料、油

21、墨、胶粘剂中，如金属涂料、食品包装印刷油墨等，具有净味、低毒、低黄变的应用特性。KS001 是一种自主创新，无生殖毒性、低气味、无升华性的光引发剂，适用于阻焊油墨、食品包装印刷油墨、UV-LED 固化配方等各类应用中。感光树脂及单体 PCB 光刻胶树脂及单体 丙烯酸系列（TM 系列）广泛应用于印制电路板（PCB）制造领域干膜光刻胶体系和液态光刻胶体系，还可用于光固化涂料、油墨、胶粘剂等领域。LCD 显示光刻胶树脂及单体 丙烯酸系列树脂（B1 系列）是显示面板用 RGB 光刻胶的主体树脂，同时也用于 RGB 彩色分散液的颜料分散。芴单体系列（FR 系列）可作为黑色光刻胶树脂原料，具有高透明、高折

22、射特性，还可应用于耐热性树脂添加剂，光固化体系活性稀释剂等领域。芴系 BM 树脂（B2 系列）被主要应用于显示面板 BM 光刻胶及其炭黑分散液。绿色光固化单体及树脂 TCM 系列氧杂环丁烷活性单体，被广泛用作阳离子固化的油墨、涂料、胶黏剂稀释剂，同时也是 3D 打印墨水的重要组分。THM 系列自由基-阳离子混杂单体，具有固化速度快、表面及底层固化好、抗氧阻、低粘度等优秀特点，被应用与混杂光固化体系中。资料来源：公司中报，华鑫证券研究 除了光刻胶专用化学品外，公司的半导体相关的产品有望应用在先进封装的中介层（Interposer）和芯片之间的 微凸点（Micro-bumping）中，在先进封装的

23、进一步渗透下，有望加速公司相关产品在封装材料领域的广泛应用。证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 8 诚信、专业、稳健、高效 1.31.3、公司公司财务情况财务情况 公司营业收入公司营业收入规模规模受需求端影响有所下滑。受需求端影响有所下滑。2022 年受宏观经济环境影响客户需求不足，公司经营业绩下滑较大。2022 年公司实现营业收入为 89,104.82 万元，较去年同期下降 14.22%；营业成本 63,951.08 万元，较去年同期下降 8.04%。归属于母公司所有者的净利润为-9,266.10 万元，较去年同期下降 180.68%。2023 年，受宏观经济环境持续影响，

24、业绩仍有下滑。2023 年上半年，公司实现营业收入 38,831.39 万元，较去年同期下降 29.10%；营业成本 29，537.19 万元，较去年同期下降 19.85%。归属于母公司所有者的净利润-1,518.46 万元，较去年同期下降 129.80%。图表图表 4 4：公司：公司 2 2 年年 H H1 1 营收情况营收情况 图表图表 5 5：公司公司 2012016 6-20232023 年年 H H1 1 归母净利润情况归母净利润情况 资料来源：WIND，华鑫证券研究 资料来源：WIND，华鑫证券研究 盈利能力方面，盈利能力方面，光引发剂是主要优势产品，

25、毛利率水平高。光引发剂是主要优势产品，毛利率水平高。分产品来看，高毛利主要集中在 LCD 光刻胶光引发剂，毛利率自 2016 年保持在 50%以上，毛利率波动主要在 PCB 光刻胶树脂上。2023 年上半年其他用途光引发剂毛利率从 23.28%大幅下跌至 3.71%，主要是由于公司在其他用途光引发剂业务中开启绿色光固化引发剂的业务发展布局，产品体系和产品结构的调整导致毛利率波动。受宏观经济影响，2022 年净利率大幅下滑，2023 年上半年回升复苏。-40%-30%-20%-10%0%10%20%30%40%50%0.0020,000.0040,000.0060,000.0080,000.00

26、100,000.00120,000.00营业总收入(万元)增速(%)-200%-150%-100%-50%0%50%-15,000.00-10,000.00-5,000.000.005,000.0010,000.0015,000.0020,000.00归属于母公司所有者的净利润(万元)增速(%)证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 9 诚信、专业、稳健、高效 图表图表 6 6：公司：公司 2 2 年年 H H1 1 毛利率及净利率毛利率及净利率情况情况 图表图表 7 7：公司公司 20 年年 H1H1 分产品毛利率分产

27、品毛利率情况情况 资料来源：WIND，华鑫证券研究 资料来源：公司年报，公司中报，华鑫证券研究 公司加大研发投入，比重呈现上升态势。公司加大研发投入，比重呈现上升态势。2018 年至 2023 年上半年，公司研发费用为4855.21 万、6241.79 万、6400.48 万、9058.17 万、9464.15 万、3563.34 万，占营业收入比例为 6.57%、7.23%、8.24%、8.72%、10.62%、9.18%。2022 年公司重点布局干膜光刻胶增感剂、干膜光刻胶树脂、显示面板光刻胶树脂、显示面板光刻胶引发剂、半导体光刻胶光酸、半导体光刻胶树脂、高性能阳离子活性单体和阳离子增感剂

28、、阳离子热酸的研发，部分新品已通过客户应用验证，获得批量生产订单，通过研发新产品、改良产品，增加客户粘性，丰富产品线，提升市场竞争力。公司营业收入主要集中在公司营业收入主要集中在 P PCBCB 光刻胶专用化学品，光刻胶专用化学品，其他用途化学品占比逐步提升。其他用途化学品占比逐步提升。从 2017 年开始，随着 5G、云计算、智能汽车等新的结构性增长热点的出现，PCB 行业迎来新的增长驱动，同时，PCB 的高密度化、薄型高多层化等高技术含量方向，带动 PCB 光刻胶用量的持续增长，公司 PCB 光刻胶专用化学品业务收入占比保持 30%左右。显示器专用化学品营业收入稍少于 PCB 光刻胶专用化

29、学品，仍有 20%左右的占比。其他用途化学品随着公司通过发行可转换公司债券募集资金布局绿色光固化材料业务也逐步从 2016 年的 16.15%提升至 2023 年上半年的 29.47%。-20-50销售毛利率(%)销售净利率(%)%0%10%20%30%40%50%60%70%80%PCB 光刻胶光引发剂PCB 光刻胶树脂LCD 光刻胶光引发剂其他用途光引发剂%证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 10 诚信、专业、稳健、高效 图表图表 8 8：公司公司 20 年年 H1H1 研发投入情况研发投入情况 图表图表 9 9：公司公

30、司 20 年年 H1H1 营业收入产品构成营业收入产品构成 资料来源：WIND，华鑫证券研究 资料来源：WIND，华鑫证券研究 2 2、光刻胶专用化学品光刻胶专用化学品占据产业链上游价值占据产业链上游价值关键关键 2.12.1、光刻胶光刻胶及其原料及其原料行业壁垒高行业壁垒高 2 2.1.1.1.1、光刻胶光刻胶是微制造领域最为关键性的材料是微制造领域最为关键性的材料 光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。移到待加工基片上的

31、图形转移介质。其中曝光是通过紫外光、电子束、准分子激光束、X 射线、离子束等曝光源的照射或辐射，从而使光刻胶的溶解度发生变化。以集成电路光刻工艺为例，主要为利用曝光（light）和显影在光刻胶层（photoresist）上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模（reticle）上的图形通过棱镜（lens）后转移到所在衬底（即硅晶圆，wafer）上；基本原理是利用光刻胶感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。0%200%400%600%800%1000%1200%0.001,000.002,000.003,000.004,000.005,000.006,00

32、0.007,000.008,000.009,000.0010,000.00200212022 2023H1研发费用(万元)研发费用占营业收入比例(%)0%20%40%60%80%100%PCB光刻胶专用化学品显示器专用化学品化工原料半导体专用化学品其他用途化学品其他化合物其他业务证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 11 诚信、专业、稳健、高效 图表图表 1010：光刻胶作用原理示意图光刻胶作用原理示意图 资料来源：公司年报，华鑫证券研究 按照化学反应原理、原材料结构及应用领域的不同，光刻胶可主要分为以下几种类别：图表图表 1111：光刻胶类别光刻胶类别

33、光刻胶类别光刻胶类别 分类名称分类名称 分类说明分类说明 按化学反应原理分类 正性光刻胶 受光照射后感光部分发生分解反应，可溶于显影液，未感光部分显影后仍然留在基底表面。负性光刻胶 曝光后形成交联网格结构，在显影液中不可溶，未感光部分溶解。按主要应用领域分类 PCB 光刻胶 主要分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨等。LCD 光刻胶 可分为彩色光刻胶、黑色光刻胶、隔离柱光刻胶、TFT 配线用光刻胶等。半导体光刻胶 分为 g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、掩模版光刻胶等。资料来源：公司年报，华鑫证券研究 正性光刻胶与负性光刻胶：正性光刻胶与负性光刻

34、胶：对于电路图形，既可以使用正性光刻胶也可以使用负性光刻胶来实现，只需要搭配不同的掩模即可。而正性光刻胶拥有高分辨率、高对比度、低曝光图形缺陷率、水溶性显影液、去胶容易的优点，20 世纪 70 年代以来，正性光刻胶成为主流光刻胶。PCBPCB 光刻胶：光刻胶：PCB（printed circuit board）是印制线路板的简称，也称电路板，是电子产品的基本组成部分之一。PCB 的加工制造过程涉及图形转移，即把设计完成的电路图像转移到衬底板上，因而在此过程中会使用到光刻胶。基本过程如下：首先在衬底表面形成一层光刻胶薄膜，然后使紫外光通过掩膜板照射到光刻胶薄膜上，曝光区域发生一系列的化学反应，再

35、通过显影的作用将曝光区域（正性）或未曝光区域（负性）溶解并去除，最后经过固化、蚀刻、退膜等一系列过程将图形转移至衬底。证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 12 诚信、专业、稳健、高效 图表图表 1212：PCB PCB 光刻胶作用原理示意图光刻胶作用原理示意图 资料来源：公司年报，华鑫证券研究 L LCDCD 光刻胶光刻胶：LCD（liquid crystal display）显示器，即液晶显示器，是一种常见的采用液晶为材料的显示设备。目前 LCD 显示器中 TFT-LCD（即薄膜晶体管液晶显示器）是市场的主流，TFT-LCD 面板的构造可简单视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶

36、，上层的玻璃基板是与彩色滤光片（color filter）结合，而下层的玻璃则有晶体管镶嵌于上。当电流通过晶体管时产生电场变化，造成液晶分子偏转，改变光线的偏极性，在电场的作用下，液晶分子排列方向发生变化，使得外光源透光率改变（调制），再利用红、绿、蓝三基色信号的不同机理，通过红、绿、蓝三基色滤光膜，完成时域和空间域的彩色重显。在 LCD 显示器的加工过程中，光刻胶主要用于制作显示器像素、电极、障壁、荧光粉点阵等。图表图表 1313：彩色滤光片（彩色滤光片（ColorFilterColorFilter）结构简图）结构简图 资料来源：公司年报，华鑫证券研究 证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一

37、页重要免责声明 13 诚信、专业、稳健、高效 半导体光刻胶半导体光刻胶：半导体光刻工艺是指利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底（硅晶圆）上。基本原理是利用光刻胶感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。半导体光刻工艺主要包括硅片清洗、预烘和底胶涂覆、光刻胶涂覆、烘干、对准和曝光、显影和坚膜、刻蚀及离子注入和光刻胶的去除。光刻工艺是半导体生产过程中的核心步骤之一，半导体生产过程各工艺步骤的紧密连续性及对精度的极度高要求也使得其对光刻胶及光刻胶原材料的要求极高。集成电路各功能层是立体重叠的，大规模集成电路常要经过

38、十几次光刻才能完成各层图形的全部传递。光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。此外，由于光刻加工分辨率直接关系到芯片特征尺寸大小，而光刻胶的性能关系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效应。光刻分辨率与曝光波长、数值孔径和工艺系数相关。光刻胶的曝光波长由宽谱紫外向 g 线i 线KrFArFEUV 的方向移动。随着曝光波长的缩短，光刻胶所能达到的极限分辨率不断提高，光刻得到的线路图案精密度更佳，而对应的光刻胶的价格也更高。图表图表 1414：半导体光刻胶工艺流程示意图半导体光刻胶工艺流程示意图 资料来源：公司年报，华鑫证券研究 光刻胶主要用于微电子领域的精

39、细线路图形加工，是微制造领域最为关键性的材料光刻胶主要用于微电子领域的精细线路图形加工，是微制造领域最为关键性的材料。自 1959 年被发明以来，光刻胶就成为半导体工业的核心工艺材料，随后被改进运用到印制电路板的制造工艺，成为 PCB 生产的重要材料；20 世纪 90 年代，光刻胶又被运用到 LCD 器件的加工制作，对 LCD 面板的大尺寸化、高精细化、彩色化起到了重要的推动作用；近年来，光刻胶成为了决定半导体芯片制程水平的关键材料。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求不同，

40、导致对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 14 诚信、专业、稳健、高效 性能上都比较特殊，要求使用不同品质等级的光刻胶专用化学品。2 2.1.2.1.2、光刻胶专用化学品光刻胶专用化学品是体现光刻胶性能的最重要是体现光刻胶性能的最重要原料原料 光刻胶专用化学品指的是生产光刻胶使用的化学原料光刻胶专用化学品指的是生产光刻胶使用的化学原料。包括光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）和光刻胶树脂、单体（或活性稀释剂）三种主要化学品成分和其他助剂。(1)光引发剂：光引发剂：是一种能吸收光能（辐射

41、能），经激发产生化学变化生成活性中间体，并进一步引发聚合或其他化学反应的物质，是光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用。光引发剂因产生的活性中间体不同，可分为自由基型光引发剂和阳离子型光引发剂。光增感剂是引发助剂，是指能吸收光能将能量转移给光引发剂或本身不吸收光能但协同参与光化学反应提高引发效率的物质。光致产酸剂是指在吸收光能后分子发生光解反应，产生强酸引发反应的物质，用于最尖端的化学增幅光刻胶。(2)光刻胶树脂：光刻胶树脂：是光刻胶中比例最大的组分，构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、曝光前和曝光后对特定溶剂的溶解度产生变化、光学

42、性能、耐老化性、耐蚀刻、热稳定性等。(3)单体：单体：是含有可聚合官能团的小分子，也称之为活性稀释剂，一般参加光固化反应，降低光固化体系黏度，同时调节光固化材料的各种性能。(4)助剂：助剂：是根据不同的用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂。其中的组成比例大致为：光引发剂 1%-6%；树脂 10%-40%；溶剂 50%-90%；添加剂（单体、助剂）20%2 增持 10%20%3 中性-10%10%4 卖出 10%2 中性-10%10%3 回避 -10%以报告日后的 12 个月内，预测个股或行业指数相对于相关证券市场主要指数的涨跌幅为标准。相关证券市场代表性指数说明：相关证券市场代表性

43、指数说明：A 股市场以沪深 300 指数为基准；新三板市场以三板成指（针对协议转让标的）或三板做市指数（针对做市转让标的）为基准；香港市场以恒生指数为基准；美国市场以道琼斯指数为基准。免责条款免责条款 华鑫证券有限责任公司（以下简称“华鑫证券”）具有中国证监会核准的证券证券研究报告证券研究报告 请阅读最后一页重要免责声明 44 诚信、专业、稳健、高效 投资咨询业务资格。本报告由华鑫证券制作，仅供华鑫证券的客户使用。本公司不会因接收人收到本报告而视其为客户。本报告中的信息均来源于公开资料，华鑫证券研究部门及相关研究人员力求准确可靠，但对这些信息的准确性及完整性不作任何保证。我们已力求报告内容客观

44、、公正，但报告中的信息与所表达的观点不构成所述证券买卖的出价或询价的依据，该等信息、意见并未考虑到获取本报告人员的具体投资目的、财务状况以及特定需求，在任何时候均不构成对任何人的个人推荐。投资者应当对本报告中的信息和意见进行独立评估，并应同时结合各自的投资目的、财务状况和特定需求，必要时就财务、法律、商业、税收等方面咨询专业顾问的意见。对依据或者使用本报告所造成的一切后果，华鑫证券及/或其关联人员均不承担任何法律责任。本公司或关联机构可能会持有报告中所提到的公司所发行的证券头寸并进行交易，还可能为这些公司提供或争取提供投资银行、财务顾问或者金融产品等服务。本公司在知晓范围内依法合规地履行披露。

45、本报告中的资料、意见、预测均只反映报告初次发布时的判断，可能会随时调整。该等意见、评估及预测无需通知即可随时更改。在不同时期，华鑫证券可能会发出与本报告所载意见、评估及预测不一致的研究报告。华鑫证券没有将此意见及建议向报告所有接收者进行更新的义务。本报告版权仅为华鑫证券所有，未经华鑫证券书面授权，任何机构和个人不得以任何形式刊载、翻版、复制、发布、转发或引用本报告的任何部分。若华鑫证券以外的机构向其客户发放本报告，则由该机构独自为此发送行为负责，华鑫证券对此等行为不承担任何责任。本报告同时不构成华鑫证券向发送本报告的机构之客户提供的投资建议。如未经华鑫证券授权，私自转载或者转发本报告，所引起的一切后果及法律责任由私自转载或转发者承担。华鑫证券将保留随时追究其法律责任的权利。请投资者慎重使用未经授权刊载或者转发的华鑫证券研究报告。报告编码：HX-230922140752