真空镀膜多层通用,设备投资占比提升 原图定位 真空镀膜多层通用将提高其设备投资占比,为设备投资带来增量。整体来看单台设备价值量 RPD 设备>PVD 设备>涂布机>激光设备。以协鑫100MW 产线为例,其采用的是表 10 中方案 1 路线,总投资额约 1.2 亿,对应蒸镀设备(PVD+RPD)占比约 70%,涂布机占比约 10%,一般 RPD设备比 PVD 设备贵 30%,因此我们估计单层 RPD、PVD 和涂布机设备价值分别为 3400 万元/百兆瓦、2500 万元/百兆瓦、1200 万元/百兆瓦。参考 HJT 中 PVD 和 CVD 设备价值量占比,我们粗略假设钙钛矿 CVD设备与 PVD 设备价值量相同,对应得到表 10 中方案 2 和方案 3 蒸镀设备的占比分别为 41%和 75%(未考虑导电玻璃层的制备);而现有晶硅电池中,PERC 和 TOPCon 镀膜以化学气相蒸镀法为主,真空蒸镀非主流,而 HJT 电池制备中蒸镀设备占比约 25%,相比之下,钙钛矿电池设备投资中真空镀膜设备占比显著提升,带来新的增量。