真空镀膜设备对比 原图定位 物理气相沉积(PVD)-物理气相沉积是指使用机械、机电或热力学过程将材料从源释放并沉积在基材上的应用技术。其中固体材料在真空环境中蒸发并作为纯材料或合金成分涂层沉积在基材上。物理气相沉积(PVD)最常见的两种技术是蒸发和溅射。该工艺将涂层材料作为单个原子或在分子水平上转移,它可以提供极其纯净和高性能的涂层,热蒸镀-加热一种固体材料,该材料在高真空室内沉积到基材表面;磁控溅射-使用磁铁将电子捕获在带负电的靶材上,具有更快的薄膜沉积速率。