半导体制作中电子特气使用占比 原图定位 较高要求。具体的,电子特气主要用于芯片制造中的化学气相沉积、光刻工艺、刻蚀工艺、掺杂工艺等环节。其中,刻蚀用电子特气在半导体制造中占比最高,达36%,外延沉积和掺杂用电子特气次之。