中微公司CCP刻蚀设备在中国台湾某晶圆厂和存储器厂 原图定位 公司电容性刻蚀设备(CCP)在国内继续保持领先优势。中微公司从 2004 年成立开始就着手开发甚高频去耦合的 CCP 刻蚀设备 Primo D-RIE,到目前为止已成功开发了双反应台 Primo D-RIE,双反应台 Primo AD-RIE 和单反应台的 Primo AD-RIE 三代刻蚀机产品,涵盖 65 纳米、45 纳米、32 纳米、28 纳米、22 纳米、14 纳米、7 纳米到 5 纳米关键尺寸的众多刻蚀应用,部分产品批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造生产线。根据中微公司公告,公司CCP 刻蚀设备在中国台湾某晶圆厂和存储器厂的份额已经占到前三,并且在不断地提升。