光刻机技术参数
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1、证券研究报告 半导体行业 2020年6月22日 光刻机行业研究框架 专题报告 分析师:陈杭执业证书编号: S08 重中之重,前道设备居首位。 光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、 镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,在制造设 备投资额中单项占比高达23%,技术要求极高,涉及精密光学、精密运动、高精度环 境控制等多项先进技术。 光刻机是人。
2、请务必阅读正文后免责条款请务必阅读正文后免责条款 摘取光刻机皇冠上的明珠摘取光刻机皇冠上的明珠ASML 证券分析师证券分析师 胡小禹胡小禹 投资咨询资格编号:投资咨询资格编号:S03 邮箱邮箱 : 吴文成吴文成 投资咨询资格编号:投资咨询资格编号:S02 邮箱邮箱 : 科技冠军系列报告(二)科技冠军系列报告(二)证券研究报告证券研究报告 202020。
3、分析师:陈杭登记编号:S08联系人:胡园园证券研究报告2022年5月19日方正电子行业深度报告国产半导体设备研究框架:光刻机薄膜沉积刻蚀机清洗氧化离子注入量测投资要点2n 逻辑存储功率三代半扩产,资本支出继续维持高位。
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