两次技术分水岭奠定光刻机格局 原图定位 光刻机发展历史,两次技术分水岭奠定格局变化。2003~2004 年为第一个分水岭:ASML选择浸润式,Nikon 选择 157nm。2010 年为第二个分水岭:EUV 量产,差距拉大。