CCZ和RCZ拉制过程杂质积累对比 原图定位

与 GTAT 合作开发 CCZ 技术，硅片下一次技术革新排头兵。公司于 2018年底和 GTAT签订了 CCZ（连续直拉法）给料系统的授权许可协议。通过引进 CCZ技术，公司在硅片生产上的技术储备处于行业领先位置。与现有的主流技术 RCZ相比，CCZ的杂质积累更缓慢，因此单炉次拉制硅棒的个数更多，从而提升单炉年产出。