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1、 最近一年行业指数走势最近一年行业指数走势 -15% -7% 0% 7% 15% 22% 29% 37% -092020-01 金属非金属新材料 上证指数 行 业 专 题 报 告 行 业 专 题 报 告 公 司 公 司 研 究 研 究 财 通 证 券 研 究 所 财 通 证 券 研 究 所 投资评级投资评级: :增持增持( (首次首次) ) 表表 1 1:重点公司投资评级:重点公司投资评级 代码代码 公司公司 总市值总市值 (亿元)(亿元) 收盘价收盘价 (05.1205.12) EPSEPS(元)(元) PE PE 投资评级投资评级 20202020 2021 2021
2、 2022 2022 20202020 2021 2021 2022 2022 300706300706 阿阿 石石 创创 44.6644.66 31.6531.65 0 0.28.28 0 0.52.52 0.600.60 1 11212 6 61 1 5 53 3 增持增持 300263300263 隆华科技隆华科技 71.3671.36 7.807.80 0 0.26.26 0 0.32.32 0 0.39.39 3 30 0 2 24 4 2 20 0 买入买入 300666300666 江丰电子江丰电子 124.80124.80 57.0557.05 0 0.37.37 0 0.47
3、.47 0 0.60.60 1 15050 1 12020 9 94 4 增持增持 600206600206 有研新材有研新材 110.31110.31 13.0313.03 0 0.18.18 0 0.24.24 0 0.42.42 7 74 4 5 54 4 3 31 1 增持增持 2020 年 05 月 12 日 靶材行业研究系列之一靶材行业研究系列之一 计 算 机 软 件 与 服 务 计 算 机 软 件 与 服 务 证 券 证 券 研 究 报 告 研 究 报 告 金 属 非 金 属 新 材 料 金 属 非 金 属 新 材 料 投资要点:投资要点: 溅射靶材,特别是高纯度溅射靶材应用于电
4、子元器件制造的物理气溅射靶材,特别是高纯度溅射靶材应用于电子元器件制造的物理气 相沉积工艺,是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关相沉积工艺,是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关 键材料。键材料。其中,半导体芯片对溅射靶材的材料纯度、内部微观结构 等方面都设定了极其苛刻的标准,需要掌握生产过程中的关键技术 并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。因此,半导体芯片 对溅射靶材的要求是最高的,价格也最为昂贵; 国家集成电路大基金二期撬动万亿资金,投资将向材料端倾斜,与一国家集成电路大基金二期撬动万亿资金,投资将向材料端倾斜,与一 期形成互补。期形成互补。在半导体材料行业中,靶材
5、行业尤其是高端靶材仍被日 美等国把控,但是国产替代已经开始崭露头角,呈现出定点突破的局 面,正是需要社会资金大力投入奋力追赶之关键时刻。按照半导体材 料占比产业 9%,靶材占比材料 3%比例测算,靶材行业有望获得超过 30 亿元投资支持,直接利好行业龙头公司; 关税免除期结束,利好国产靶材成长。关税免除期结束,利好国产靶材成长。2015 年财政部等五部委曾发布 通知,规定进口靶材的免税期到 2018 年年底结束。这意味着自 2019 年起,日本、美国进口的靶材需要缴纳关税,从而提高国内靶材在价 格方面的优势地位。当初对进口靶材免税主要是为了保护中国面板产 业链的供应,京东方等龙头面板厂跟国家申
6、请进口免税政策,随着 FPD 靶材国产化的发展以及加速国产化靶材的成长,免税政策有必要取消。 我们查询海关总署网站发现,带背板的溅射靶材组件的进口普通税率 为 17%,增值税率为 13%。如果征收关税,提高海外靶材供应成本,将 有利于国产化靶材的发展和渗透率提升; 看好靶材国产化,利好龙头。看好靶材国产化,利好龙头。国内集成电路产业一直受制于人,每年 大量从海外进口,进口金额居所有进口商品第一位。近年来,中兴制 裁事件与华为事件都给我们敲响警钟,芯片等核心技术产业亟需发展, 国产替代刻不容缓。作为半导体材料中的重要一环溅射靶材同样如 此,国产化是必然之路也是唯一之路。看好溅射靶材的国产化趋势,
7、 龙头公司有望在政策、市场的东风下不断扩张市场份额,推荐标的: 有研新材、江丰电子、隆华科技、阿石创。 风险提示:风险提示:产业政策无法顺利落地;经济超预期衰退 行 业 行 业 研 究 研 究 财 通 证 券 研 究 所 财 通 证 券 研 究 所 辅芯助屏,溅射全球辅芯助屏,溅射全球 以才聚财以才聚财,财通天下,财通天下 证 券 证 券 研 究 报 告 研 究 报 告 联系联系信息信息 李帅华李帅华 分析师分析师 SAC 证书编号:S01 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 2 证券研究报告证券研究报告 行业
8、专题报告行业专题报告 内容目录内容目录 1 1、 靶材概况靶材概况 .4 4 1.1 产业链条. 5 1.2 制造工艺. 7 1.3 产业格局. 8 1.4 产业政策. 9 2 2、 半导体用溅射靶材半导体用溅射靶材 .1111 2.1 更小制程,利好铜钽靶材. 12 2.2 供应格局:国产靶材定点突破. 13 2.3 供应商认证:周期漫长,标准苛刻. 14 2.4 市场规模. 15 3 3、 平板显示用靶材平板显示用靶材 .1515 3.1 竞争格局:定点突破重点品种. 16 3.2 市场空间:LCD 和 OLED 双轮驱动 . 18 4 4、 光伏电池用靶材光伏电池用靶材 .2222 5
9、5、 行业投资逻辑行业投资逻辑.2525 5.1 大基金二期加持,加速产业发展. 25 5.2 免税政策取消,支撑国产靶材快速成长. 26 5.3 国产替代,大势所趋. 27 6 6、 主要上市公司主要上市公司.2727 6.1 有研新材. 27 6.2 江丰电子. 28 6.3 隆华科技. 29 6.4 阿石创. 30 7 7、 风险提示风险提示 .3131 图表目录图表目录 图图 1 1:溅射示意图:溅射示意图 .4 4 图图 2 2:高纯靶材产业链:高纯靶材产业链.5 5 图图 3 3:溅射靶材应用结构:溅射靶材应用结构 .6 6 图图 4 4:靶材生产工艺流程:靶材生产工艺流程 .8
10、8 图图 5 5:靶材市场主要企业份额:靶材市场主要企业份额 .8 8 图图 6 6:国内靶材企业:国内靶材企业 .9 9 图图 7 7:半导体靶材溅射原理图:半导体靶材溅射原理图 .1212 图图 8 8:半导体用金属靶材:半导体用金属靶材 .1212 图图 9 9:半导体制造材料成本结构:半导体制造材料成本结构.1515 图图 1010:半导体用靶材市场规模预测(单位:亿元):半导体用靶材市场规模预测(单位:亿元).1515 图图 1111:铜靶、:铜靶、8.58.5 代线的铝条靶、钼条靶和代线的铝条靶、钼条靶和 5.55.5 代线用宽幅钼靶代线用宽幅钼靶 .1616 图图 1 12 2:
11、FPDFPD 技术路线技术路线 .1919 图图 1313:全球:全球 FPDFPD 市场结构市场结构 .1919 图图 1414:国内:国内 FPDFPD 市场结构市场结构 .1919 图图 1515:全球:全球 FPDFPD 需求规模(单位:百万)需求规模(单位:百万) .2020 图图 1616:FPDFPD 用靶材国内市场规模用靶材国内市场规模 . .2121 图图 1717:光伏电池分类:光伏电池分类 .2222 图图 1818:光伏电池用靶材形成背电极:光伏电池用靶材形成背电极 .2323 图图 1919:HITHIT 电池成本结构电池成本结构 .2323 图图 2020:HITH
12、IT 工艺链条工艺链条 .2323 pOqPrQnOqNmNuNnPvNrNvNaQaO6MoMnNoMpPkPqQmRjMqRmP9PoOwOvPsOzRuOoPrR 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 3 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 图图 2121:HITHIT 电池结构电池结构 .2424 图图 2222:光伏电池用靶材市场规模预测:光伏电池用靶材市场规模预测 .2424 图图 2323:大基金一期投资领域:大基金一期投资领域 .2525 图图 2424:大基金二期股东结构:大基金二期股东结构 .252
13、5 图图 2525:靶材进口相关税率:靶材进口相关税率 .2626 图图 2626:中国进口货物金额排名:中国进口货物金额排名 .2 27 7 图图 2727:有研亿金历年净利润(单位:万元):有研亿金历年净利润(单位:万元) .2828 图图 2828:江丰电子业绩概况:江丰电子业绩概况 .2828 图图 2929:四丰电子历年业绩(单位:万元):四丰电子历年业绩(单位:万元).2929 图图 3030:晶联光电生产的:晶联光电生产的 ITOITO 靶材靶材. .3030 图图 3131:阿石创业绩概况:阿石创业绩概况 .3131 表表 1 1:三种真空镀膜方式对比:三种真空镀膜方式对比 .
14、5 5 表表 2 2:靶材分类:靶材分类 .5 5 表表 3 3:靶材应用细分情况:靶材应用细分情况 .6 6 表表 4 4:靶材生产工艺对比:靶材生产工艺对比 .7 7 表表 5 5:历年来靶材相关行业政策:历年来靶材相关行业政策.9 9 表表 6 6:半导体用靶材简介:半导体用靶材简介 .1313 表表 7 7:国内外半导体用靶材供应商简介:国内外半导体用靶材供应商简介 .1414 表表 8 8:不同材质靶材在平板显示的应用:不同材质靶材在平板显示的应用 .1616 表表 9 9:平板显示用靶材的国内外供应商:平板显示用靶材的国内外供应商 .1717 表表 1010:国内靶材企业下游面板客
15、户:国内靶材企业下游面板客户 .1818 表表 1111:国内面板厂商产能规划情况:国内面板厂商产能规划情况 .2020 表表 1212:全球:全球 OLEDOLED 产线产能产线产能 .2020 表表 1313:靶材行业主要公司概况:靶材行业主要公司概况 .2626 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 4 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 1 1、 靶材概况靶材概况 靶材靶材:溅射溅射薄膜薄膜制备制备的源头的源头材料材料,又称溅射靶材,又称溅射靶材,特别是高纯度溅射靶材应用于,特别是高纯度溅射靶材应用于 电子元器
16、件制造的物理气相沉积(电子元器件制造的物理气相沉积(Physical Vapor DepositionPhysical Vapor Deposition,PVDPVD)工艺,是)工艺,是 制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。真空状态下,用加速 的离子轰击固体表面,离子和固体表面原子交换动量,使固体表面的原子离开固 体并沉积在基底表面形成所需要的薄膜,这一过程称为溅射。被轰击的固体是用 溅射法沉积薄膜的源材料,通常称为靶材。 图图 1 1:溅射示意图溅射示意图 数据来源:数据来源: 溅射靶材发展概述 ,溅射靶材发展概述 ,财通证券
17、研究所财通证券研究所 溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标溅射靶材主要由靶坯、背板等部分构成,其中,靶坯是高速离子束流轰击的目标 材料,属于溅射靶材的核心部分材料,属于溅射靶材的核心部分。在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表 面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜; 由于高纯度金属强度较低, 而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程,机台内部为高电压、高真空 环境,因此,超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺(行业俗称 绑定技术)进行接合,背板起到主要起到固定溅射靶材的作用,且需要具备良好 的导电、导热性能。 溅射镀膜是制备薄膜的主要
18、技术之一,综合优势显著。溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一,综合优势显著。PVD 镀膜目前主要有三种 形式,分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。综合而言,蒸镀薄膜的密度最 差, 只能达到理论密度的 95%, 镀膜的附着力也最差, 但是蒸镀的镀膜速率最快。 离子镀不但密度最高、晶粒最小,而且镀膜与基板的附着力也是三种镀膜中最大 的,只是离子镀膜最大的缺点是基板必需是导电材料,并且镀膜时基板的温度会 升高到摄氏几百度,上述的缺点使离子镀的应用受到很大的限制。目前,溅射是 制备薄膜材料的主要技术之一,用溅射靶材沉积的薄膜致密度高,与基材之间的 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券
19、股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 5 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 附着性好,所以从理论而言,溅射镀膜的性质,牢固度都比热蒸发和电子束蒸发 薄膜好。 表表 1 1:三种真空镀膜方式对比三种真空镀膜方式对比 蒸发镀膜 溅射镀膜 离子镀膜 方式 通过在真空中加热蒸发某种 物质使其产生金属蒸气沉积 (凝聚)在固体表面成为薄 膜 用高能粒子轰击固体表 面时能使固体表面的粒 子获得 能量 并逸 出表 面,沉积在基片上 蒸发物质的分子被电 子碰撞电离后以离子 沉积在固体表面 粒子能量 eV 0.1-1 1-10 10 镀膜理论密度 95% 98% 98% 晶粒大小 大 小 非
20、常小、非晶质 膜附着力 小 中 大 镀膜速率 nm/min 0.1-75 0.01-0.5 0.1-50 数据来源:数据来源:真空镀膜概述,真空镀膜概述,财通证券研究所财通证券研究所 表表 2 2:靶材靶材分类分类 序号序号 分类标准分类标准 产品类别产品类别 1 按形状分类 长靶、方靶、圆靶 2 按化学成份分 类 金属靶材(纯金属铝、钛、铜、钽等) 、合金靶材(镍铬合金、镍钴合金等)、 陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等) 3 按应用领域分 类 半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具 改性靶材、电子器件靶材、其他靶材 数据来源:数据来源:溅射靶材种类
21、、应用与发展趋势,溅射靶材种类、应用与发展趋势,财通证券研究所财通证券研究所 1.1 1.1 产业链条产业链条 靶材产业链:溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布。产业链主要包括金属提纯、 靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。其中,靶材制造和溅射镀膜环节是整个其中,靶材制造和溅射镀膜环节是整个 溅射靶材产业链中的关键环节。溅射靶材产业链中的关键环节。 图图 2 2:高纯靶材产业链高纯靶材产业链 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 6 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 数据来源:数据来源:江丰电子,江丰电子,财通证券研究所
22、财通证券研究所 半导体领域对靶材要求最高半导体领域对靶材要求最高。WSTS(全球半导体贸易统计组织)数据显示,溅射 靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等领域。其中,在溅射 靶材应用领域中,半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面 都设定了极其苛刻的标准, 需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能 制成符合工艺要求的产品。因此,半导体芯片对溅射靶材的要求是最高的,价格 也最为昂贵。 图图 3 3:溅射靶材应用结构溅射靶材应用结构 数据来源:数据来源:WSTSWSTS,财通证券研究所财通证券研究所 表表 3 3:靶材应用细分情况靶材应用细分情况 应用领域应用领域
23、 金属材料金属材料 主要用途主要用途 性能要求性能要求 半导体芯片 超高纯度铝、钛、铜、钽等 制备集成电路的关键 原材料 技术要求最高、超高纯 度金属、高精度尺寸、 高纯溅射靶材产业链 金属提纯 靶材制造 溅射镀膜 终端应用 半导体芯片 平板显示器 太阳能电池 信息存储 光学应用 半导体, 11.4% 光伏电池, 18.5% 记录媒体, 28.6% 平板显示, 33.8% 其他, 7.7% 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 7 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 高集成度 平面显示器 高纯度铝、铜、钼等,掺锡 氧化
24、铟(ITO) 高清晰电视、笔记本电 脑等 技术要求高、高纯度材 料、材料面积大、均匀 性程度高 太阳能电池 高纯度铝、铜、钼、铬等, ITO 薄膜太阳能电池 技术要求高、应用范围 大 信息存储 铬基、钴基合金等 光驱、光盘等 高储存密度、高传输速 度 工具改性 纯金属铬、铬铝合金等 工具、模具等表面强化 性能要求较高、使用寿 命延长 电子器件 镍铬合金、铬硅合金等 薄膜电阻、薄膜电容 要求电子器件尺寸小、 稳定性好、电阻温度系 数小 其他领域 纯金属铬、钛、镍等 装饰镀膜、玻璃镀膜等 技术要求一般,主要用 于装饰、节能等 数据来源:数据来源:溅射靶材的应用及细分场景,溅射靶材的应用及细分场景,
25、财通证券研究所财通证券研究所 1.2 1.2 制造制造工艺工艺 溅射靶材的制备工艺主要包括熔炼铸造法和粉末烧结法。溅射靶材的制备工艺主要包括熔炼铸造法和粉末烧结法。 常用的熔炼方法有真空 感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子轰击熔炼等。与粉末法制备的合金相比,熔 炼合金靶材的杂质含量(特别是气体杂质含量)低, 且能高密度化、 大型化。 但是, 对于熔点和密度相差都很大的 2 种或 2 种以上金属,采用普通的熔炼法一般难 以获得成分均匀的合金靶材;粉末冶金工艺具有容易获得均匀细晶结构、节约原 材料、生产效率高等优点,粉末冶金法制备靶材时,其关键在于选择高纯、超细 粉末作为原料。 选择能实现快速致密化
26、的成形烧结技术, 以保证靶材的低孔隙率, 并控制晶粒度,制备过程严格控制杂质元素的引入。常用的粉末冶金工艺包括热 压、真空热压和热等静压(HIP)等。 表表 4 4:靶材生产靶材生产工艺工艺对比对比 工艺工艺 流程流程 常用方法常用方法 优点优点 缺点缺点 熔炼铸造法 将一定成分配比的合金原 料熔炼,再将合金熔液浇 注于模具中,形成铸锭,最 后经机械加工制成靶材 真空感应熔炼、真空 电弧熔炼和真空电 子轰击熔炼 靶材杂质含量 (特别是气体 杂质含量)低, 密度高,可大 型化 对熔点和密度相差较 大的两种或两种以上 金属,普通熔炼法难以 获得成分均匀的合金 靶材 粉末冶金法 将一定成分配比的合金
27、原 料熔炼,浇注成铸锭后再 粉碎,将粉碎形成的粉末 经等静压成形,再高温烧 结,最终形成靶材 冷压、真空热压和热 等静压等 靶材成分均匀 密度低,杂质含量高等 数据来源:溅射靶材的应用及发展前景,财通证券研究所数据来源:溅射靶材的应用及发展前景,财通证券研究所 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 8 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 图图 4 4:靶材生产工艺流程靶材生产工艺流程 数据来源:数据来源: 溅射靶材的应用及发展前景溅射靶材的应用及发展前景 , ,财通证券研究所财通证券研究所 1.3 1.3 产业格局产业
28、格局 呈现呈现寡头垄断格局。寡头垄断格局。目前,全球的靶材制造行业,特别是高纯度的靶材市场,呈 现寡头垄断格局,主要由几家美日大企业把持,如日本的三井矿业、日矿金属、 日本东曹、住友化学、日本爱发科,以及美国霍尼韦尔、普莱克斯等。相关数据 显示,日矿金属是全球最大的靶材供应商,靶材销售额约占全球市场的 30%,霍 尼韦尔在并购 Johnson Mattey、整合高纯铝、钛等原材料生产厂后,占到全球 市约 20%的份额,此外,东曹和普莱克斯分别占 20%和 10%。这些企业在掌握溅 射靶材生产的核心技术以后,实施极其严格的保密措施,限制技术扩散,同时不 断进行横向扩张和垂直整合,将业务触角积极扩
29、展到溅射镀膜的各个应用领域, 牢牢把握着全球溅射靶材市场的主动权, 并引领着全球溅射靶材行业的技术进步。 图图 5 5:靶材市场主要企业份额靶材市场主要企业份额 数据来源:数据来源:半导体观察,半导体观察,财通证券研究所财通证券研究所 国内企业崭露头角国内企业崭露头角,前途无量前途无量。目前,国内靶材厂商主要聚焦在低端产品领域, 在半导体、平板显示器和太阳能电池等市场还无法与国际巨头全面竞争,但是, 依靠国内的巨大市场潜力和利好的产业政策,以及产品价格优势,它们已经在国 内市场占有一定的市场份额, 并逐步在个别细分领域抢占了部分国际大厂的市场 JX nippon, 30% Honeywell
30、, 20% TOSOH, 20% Praxair, 10% 其他, 20% 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 9 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 空间。近年来,我国政府制定了一系列产业政策,如 863 计划、02 专项基金等 来加速溅射靶材供应的本土化进程, 推动国产靶材在多个应用领域实现从无到有 的跨越。这些都从国家战略高度扶植并推动着溅射靶材产业的发展壮大。 图图 6 6:国内靶材企业国内靶材企业 数据来源:数据来源:新材料在线,新材料在线,财通证券研究所财通证券研究所 1.4 1.4 产业政策产业政策 行
31、业政策:行业政策:为推动溅射靶材产业发展,增强产业创新能力和国际竞争力,带动传 统产业改造和产品升级换代,进一步促进国民经济持续、快速、健康发展,我国 推出了一系列支持溅射靶材产业发展的政策。 表表 5 5:历年来历年来靶材靶材相关行业政策相关行业政策 序号序号 政策名称政策名称 政策导向政策导向 1 国家中长期科学和技术发展规划纲 要 (2006-2020 年) (2006 年 2 月) (1) 确定核心电子器件、高端通用芯片及基础软件, 极大规模集成电路制造技术及成套工艺等重大专项 是我国科技发展的重中之重; (2)重点研究开发满足国民经济基础产业发展需求 的高性能复合材料及大型、 超大型
32、复合结构部件的制 备技术,轻质高强金属和无极非金属结构材料, 高纯 材料及应用技术。 2 国务院关于加快培育和发展战略 性新兴产业的决定(2010 年 10 月) 大力发展稀土功能材料、高性能膜材料、特种玻璃、 功能陶瓷、半导体照明材料等新型功能材料。 3 产业结构调整指导目录(2011 年 本)(2011 年 3 月) 将直径 200mm 以上的硅单晶及抛光片、直径 125mm 以上直拉或直径 50mm 以上水平生长化合物半导体 材料、 铝铜硅钨钼等大规格高纯靶材、 超大规模集成 电路铜镍硅和铜铬锆引线框架材料、电子焊料等信 息、新能源有色金属新材料生产列为鼓励类项目。 4 当前优先发展的高技术产业化重 点领域指南 (2011 年度) (2011 将“高速集成电路技术及芯片”、 “线宽 65 纳米以 下的纳米级集成电路芯片制造、封装和测试”、 “半 谨请参阅尾页重要声明及谨请参阅尾页重要声明及财通财通证券股票和行业评级标准证券股票和行业评级标准 10 证券研究报告证券研究报告 行业专题报告行业专题报告 年 6 月) 导体纳米结构材料与器件”、 “TFT-LCD 用靶材”等 列为当前优先发展的高技术产业化重点领域。 5 工业转型升级规划(2011-201