IGBT工艺与设计难度高,产品生命周期长。IGBT芯片结构分为正面(Emitter side )和背面(Collectoer
side)。从80年代初到现在,IGBT正面技术从平面栅(Planar)迭代至沟槽栅(Trench),并演变为微沟槽(Micro Pattern Trench
);背面技术从穿通型(PT,Punch Through)迭代至非穿通型(NPT,Non Punch Through),再演变为场截止型(FS,Field
Stop )。
(1)早期设计:穿通型(PT,PunchThrough)
使用重掺杂的P+衬底作为起始层,在此之上依次生长N+buffer,N-base外延,最后在外延层表面形成元胞结构。它因为截止时电场贯穿整个N-base区而得名。工艺复杂,成本高,而且需要载流子寿命控制,饱和压降呈负温度系数,不利于并联,于80年代后期被逐渐取代。
(2)IGBT2:平面栅(Planar)+非穿通型(NPT,NonPunchThrough)
相比PT,NPT使用低掺杂的N-衬底作为起始层,先在N-漂移区的正面做成MOS结构,然后用研磨减薄工艺从背面减薄到IGBT电压规格需要的厚度,再从背面用离子注入工艺形成P+collector。在截止时电场没有贯穿N漂移区,因名非穿通型。部分IGBT2产品在高频开关应用领域仍有一定销量。
(3)IGBT3:沟槽栅(Trench)+场截止(Field-Stop)
1)栅极结构变为沟槽型,电子沟道垂直于硅片表面,消除了JFET结构,增加了表面沟道密度,提高近表面载流子浓度,性能更加优化。2)纵向结构方面,场截止的起始材料和NPT相同,都是低掺杂的N-衬底;场截止在背面多注入了一个Nbuffer层,它的掺杂浓度略高于N衬底,因此可以迅速降低电场强度,使整体电场呈梯形,使所需的N-漂移区厚度大大减小;Nbuffer还可以降低Р发射极的发射效率,从而降低了关断时的拖尾电流及损耗。在中低压领域基本已经被IGBT4取代,但在高压领域依然占主导地位,比如330ov,4500v,6500V的主流产品仍然在使用IGBT3。
(4)IGBT4:沟槽栅+场截止+薄晶圆
和IGBT3一样,都是场截止+沟槽栅的结构,但IGBT4优化了纵向结构,漂移区厚度更薄,背面Р发射极及Nbuffer的掺杂浓度及发射效率都有优化。IGBT4是目前使用最广泛的IGBT芯片技术,电压包含600V,1200V,1700v,电流从10A到3600A具有涉及。
(5)IGBT5
沟槽栅+场截止+表面覆铜:使用厚铜代替了铝,铜的通流能力及热容都远远优于铝,因此IGBT5允许更高的工作结温及输出电流。同时芯片结构经过优化,芯片厚度进一步减小。铜的成本高于铝,IGBT5未得到广泛应用,目前只封装在PrimePACKTM里,电压也只有1200V,1700v.
(6)IGBT6
沟槽栅+场截止:器件结构和IGBT4类似,但是优化了背面P+注入,从而得到了新的折衷曲线。IGBT6未得到广泛应用,只有单管封装的产品。
(7)IGBT7
微沟槽栅+场截止:IGBT7作为最新一代技术,其沟道密度更高,元胞间距也经过精心设计,并且优化了寄生电容参数,从而实现5kv/us下的最佳开关性能。目前,IGBT7尚未得到广泛应用,但发展前景广阔。英飞凌的相关产品中,T7用于电机驱动器,E7应用于电动商用车主驱,光伏逆变器等。随着光伏产业、新能源汽车产业的发展,IGBT7有望进一步推广[1]。
目前使用最广泛的是IGBT4。IGBT芯片迭代的主要优化方向包括:沟道密度提高、电流密度提高、最大工作温度提高、芯片厚度减薄、导通压降降低、开关损耗降低、开关频率提高(以及与短路能力取舍平衡)等。
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