工业清洗
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1、至纯科技(603690) 证券研究报告公司研究专用设备 1 / 36 东吴证券研究所东吴证券研究所 立足立足高纯工艺,半导体高纯工艺,半导体清洗设备清洗设备将将迎增迎增长长 增持(首次) 投投资要点资要点 国内高纯工艺国内高纯工艺系统系统龙头龙头,后发进军后发进军半导体清洗设备业务半导体清洗设备业务 至纯科技主要从事高纯工艺系统和半导体湿法清洗设备业务, 2019 年 收入分别为 6.。
2、 公司公司报告报告 | 首次覆盖报告首次覆盖报告 1 至纯科技至纯科技(603690) 证券证券研究报告研究报告 2020 年年 02 月月 21 日日 投资投资评级评级 行业行业 机械设备/专用设备 6 个月评级个月评级 买入(首次评级) 当前当前价格价格 42 元 目标目标价格价格 54.60 元 基本基本数据数据 A 股总股本(百万股) 258.91 流通A 股股本(百万股) 20。
3、 1 T a 证 券 研 究 报 告 证 券 研 究 报 告 公 司 深 度 研 究 公 司 深 度 研 究 至纯科技(至纯科技(603690)机械设备 加速半导体清洗设备布局加速半导体清洗设备布局,开创“芯”篇章,开创“芯”篇章 投资要点:投资要点: 立足高纯工艺,确立领域龙头地位。 立足高纯工艺,确立领域龙头地位。 2018年,至纯科技完成的上海华 力12英寸28纳米先进工艺产线的建设。
4、 1 证券研究报告证券研究报告 公司研究/首次覆盖 2020年01月13日 中小市值中小市值/中小市值中小市值 当前价格(元): 32.56 合理价格区间(元): 35.9339.07 孔凌飞孔凌飞 执业证书编号:S0570517040001 研究员 王涛王涛 执业证书编号:S0570519110001 研究员 资料来源:Wi。
5、 1/29 请务必阅读正文之后的免责条款部分 覆 盖 报 告 至纯科技至纯科技(603690) 报告日期:2020 年 2 月 18 日 至纯科技至纯科技: :冉冉升起冉冉升起的的清洗设备新星清洗设备新星 至纯科技覆盖报告 行 业 公 司 研 究 半 导 体 行 业 :孙芳芳 执业证书编号:S01 : : :联系人:蒋鹏 :。
6、 - 1 - 市场价格(人民币) : 37.90 元 目标价格(人民币) :48.00-48.00 元 市场数据市场数据( (人民币人民币) ) 总股本(亿股) 2.58 已上市流通 A股(亿股) 2.34 总市值(亿元) 97.71 年内股价最高最低(元) 37.90/29.60 沪深 300 指数 3913 上证指数 2860 范彬泰范彬泰 联系人联系人 樊志远樊。
7、 识别风险,发现价值 请务必阅读末页的免责声明 1 1 / 2222 Table_Page 行业专题研究|半导体 2020 年 6 月 18 日 证券研究报告 本报告联系人: 蔡锐帆 广发证券“科创”系列报告广发证券“科创”系列报告 盛美股份:盛美股份:半导体半导体清洗清洗设备领先企业设备领先企业 分析师:分析师: 许兴军 分析师:分析师: 罗立波 分析师:分析师: 王亮。
8、 证券证券研究报告研究报告 | 行业行业联合报告联合报告 工业工业 | 机械机械 推荐推荐(维持维持) 清洗需求提高,关注清洗需求提高,关注设备进口替代设备进口替代 2020年年03月月05日日 半导体设备系列报告半导体设备系列报告之三之三清洗篇清洗篇 上证指数上证指数 3012 行业规模行业规模 占比% 股票家数(只) 367 9.7 总市值(亿元) 30966 5.1 流通市值 (。
9、 国产半导体设备进口替代突破口之清洗设备 国产湿法清洗龙头盛美回归 清洗贯穿全流程,随着制程难度清洗贯穿全流程,随着制程难度增加、清洗步骤增加、清洗步骤 随之随之大增大增,对清洗设备需求,对清洗设备需求也将提升也将提升。 1)硅片的加工过 程对洁净度要求非常高,几乎每一步加工都需要清除沾污,而 且随着未来制程不断先进、所需清洗步骤不断增多,清洗设备 需求量将成倍增长。 2)目前晶圆清。
10、 1 本报告版权属于安信证券股份有限公司。 本报告版权属于安信证券股份有限公司。 各项声明请参见报告尾页。 各项声明请参见报告尾页。 . 涂胶显影涂胶显影打破垄断打破垄断, 湿法清洗国产先锋湿法清洗国产先锋 国内国内涂胶显影涂胶显影设备稀缺供应商设备稀缺供应商,横跨横跨晶圆制造前后道工艺晶圆制造前后道工艺:芯源微是 国内半导体设备稀缺供应商, 自 2002 年年成立以来深耕涂胶显影设备, 已经在。
11、中德智能制造合作企业对话工作组(AGU)工业互联网专家组 工业 4.0 x 工业互联网: 实践与启示 Published by 中德智能制造合作企业对话工作组(AGU)工业互联网专家组 工业 4.0 x 工业互联网: 实践与启示 发布单位: 德国国际合作机构(GIZ) 注册地:德国波恩、埃施伯恩 德国国际机构(GIZ)驻华代表处 盛福大厦 1100 北京市朝阳区麦子店街 37 号,100125 电。
12、 2020 年深度行业分析研究报告 正文目录 1. 清洗是前道制程中的重要环节3 1.1. 清洗应用在制程多环节3 1.2. 清洗方法:干法与湿法、单片与槽式4 1.3. 清洗步骤需要不断重复去除沾污7 2. 全球清洗设备日系占据主导地位,国产设备奋起直追7 2.1. 2021 年全球半导体清洗设备市场规模约为 32 亿美元8 2.2. 全球市场格局日系占据主导地位9 2.3. 大基金二期已。
13、 2020 年深度行业分析研究报告 正文目录 前言存储器价格回升,资本开支有望回暖5 一、全球逐渐走出低谷,国内产能持续爬坡5 1、全球市场:2019 年市场同比下滑,年末逐渐走出低谷5 2、国内市场:产能持续增长,将超韩国成为全球最大半导体市场7 二、摩尔定律下,制程工艺节点迅速演变9 三、半导体清洗需求、难度不断增长10 1、半导体清洗高质量半导体器件的保障11 2、技术路线干法、湿法各。
14、pLED化合物功率器件行业发展前景广阔,为 6 英寸设备提供市场。 1根据 GGII的数据,2018 年我国 LED 芯片行业产值规模达 191 亿元,占全球 LED 芯片产值比例为 39.2019 年,预计将达到 200 亿元,全球 L。
15、1光阻去除设备PRS :可以去除离子注入或刻蚀工艺后的光刻胶与有机残留物,为清洗步骤最多的工艺;pp2预清洗设备Pre Clean:为炉管前的预清洗工艺设备,主要为氧化或沉积工艺制备无氧化物表面,并去除颗粒与有机残留物,解离并去除晶圆表面。
16、2021 年上半年国内多个晶圆厂发布扩产计划。 疫情整体缓和背景下,芯 片下游需求爆发,同时由于疫情局部反复造成供给端不确定性,以及芯 片交期相对较长造成代工厂对需求端预估不足,导致 2020 年下半年开 始芯片产能紧缺,从目前情况看,预计。
17、集成电路产业链主要包括核心产业链支撑产业链以及需求产业链。 核心产业链包括集成电路设计制造和封装测试,支撑产业链包括集成电路材料设备EDAIP核等,需求产业链包括通讯产品领域消费电子领域计算机芯片领域汽车工业领域等。 通常在晶圆制造环节使用的。
18、投资摘要估值与投资建议我们预计公司202120222023年营收分别为18.28亿元22.96亿元27.57 亿元,归母净利润分别为2.83亿元3.64亿元4.32亿元,对应当前股价的PE分别为41x32x27x。 公司通过高纯工艺系统起家,。
19、公司主要产品和服务包括高纯工艺系统半导体湿法清洗设备光传感应用及相关光学元器件。 产品广泛应用于半导体微电子生物医药光伏光纤LED电力电网石油石化数据及通信等领域。 公司立足高纯工艺核心技术,打造湿法清洗设备研发和制造平台,同步发展相关工艺生产。
20、随着半导体芯片工艺技术节点进入 28 纳米14 纳米等更先进等级,工艺流程的延长且越趋复杂,产线成品率也会随之下降。 造成这种现象的一个原因就是先进制程对杂质的敏感度更高,小尺寸污染物的高效清洗更困难。 解决的方法主要是增加清洗步骤。 每个晶片在。
21、回顾2020年Q1到现在,公司期末合同负债与存货屡创新高。 2020年一季度期末合同负债近26亿元,存货40亿元;而2021年三季度期末合同负债则达到55.03亿元,存货则达到76.08亿元,实现近翻倍增长,可见公司在手订单充沛,并积极加大材。
22、公司研发的立式炉管设备主要由晶圆传输模块,工艺腔体模块,气体分配模块,温度控制模块,尾气处理模块以及软件控制模块所构成,针对不同的应用和工艺需求进行设计制造,首先集中在 LPCVD 设备,再向氧化炉和扩散炉发展,最后逐步进入到 ALD设备应。
23、全球清洗设备市场集中度高,日系厂商占据主导地位。 根据盛美上海招股书,DNSTELLAM 与 SEMES 四家公司合计市场占有率达到 90以上,行业马太效应显著,市场高度集中。 其中 DNS 市场份额最高,市场占有率在 40以上。 排名第二的 T。
24、1 至纯科技拥有 812 英寸高阶单晶圆湿法清洗设备和槽式湿法清洗设备的相关技术,产品覆盖晶圆制造先进封装太阳能等多个下游应用。 公司湿法设备有槽式和单片式812 反应腔两种,可以提供到 28 纳米节点全部湿法工艺,已经切入中芯国际华虹集团等。
25、2020 年以来国内设备厂商季度营收维持同比高增长趋势,高景气行情下在手订单充足。 在下游晶圆厂加速扩产情况下,国内厂商一方面季度营收同比增速不断加速,一方面存货和合同负债不断增多,反映在手订单充足。 我们统计北方华创中微公司至纯科技华峰测控和。
26、 1 敬请参阅最后一页特别声明 市场价格 人民币 : 131.64 元 引领引领半导体半导体清洗设备清洗设备国产化国产化,加速,加速平台化布局平台化布局 公司基本情况公司基本情况 人民币人民币 项目项目 2019 2020 2021E 20。
27、 请务必阅读正文后的声明及说明请务必阅读正文后的声明及说明 TableInfo1TableInfo1 盛美上海盛美上海688082688082 半导体半导体 电子电子 TableDate 发布时间:发布时间:20211124 TableIn。
28、盛美上海688082 证券研究报告公司研究专用设备 1 39 东吴证券研究所东吴证券研究所 请务必阅读正文之后的免责声明部分请务必阅读正文之后的免责声明部分 全球全球半导体清洗设备半导体清洗设备新星新星,平台化平台化布局打开布局打开 成长空。
29、请务必阅读正文之后的免责条款部分请务必阅读正文之后的免责条款部分 国林科技国林科技300786300786 乙醛酸贡献业绩乙醛酸贡献业绩弹性弹性,半导体清洗突破可期,半导体清洗突破可期 国林科技国林科技首次覆盖报告首次覆盖报告 证书编号 本。
30、2021 年深度行业分析研究报告 中国大陆半导体设备空间:千亿以上Gartner北方华创:模型拆解和市值空间测算方正证券研究所整理中国大陆 半导体设备空间12英寸产线8英寸产线三代半6吋线代工 IDM 存储 功率 CIS代工 功率LED 射。
31、 有关分析师的申明,见本报告最后部分。 其他重要信息披露见分析师申明之后部分,或请与您的投资代表联系。 并请阅读本证券研究报告最后一页的免责申明。 芯源微 688037.SH 公司研究 首次报告 国内涂胶显影设备龙头,背靠中科院沈自所国内涂胶显。
32、盛美上海688082深度报告:半导体清洗设备龙头,平台化战略开启新征程国海证券研究所吴吉森分析师厉秋迪联系人S0350520050002S0350121010059评级:买入首次覆盖证券研究报告2022年04月27日电子行业相对沪深300表。
33、 1 证券研究报告证券研究报告 公司深度研究公司深度研究 盛美上海盛美上海688082电子 清洗设备龙头,平台化初具规模清洗设备龙头,平台化初具规模 投资要点:投资要点: 伴随制程进步清洗步骤不断增加伴随制程进步清洗步骤不断增加,清洗设备清。
34、 请务必阅读正文之后的信息披露和法律声明 TableMain 证券研究报告 公司首次覆盖 国林科技300786.SZ 2022 年 05 月 09 日 增持增持首次首次 所属行业:公用事业环保工程及服务 当前价格元:11.98 证券分析师证。
35、 证券研究报告 请务必阅读正文之后的免责条款 从从半导体半导体清洗设备龙头清洗设备龙头到到平台型平台型设备设备企业企业 盛美上海688082.SH投资价值分析报告2022.5.12 中信证券研究部中信证券研究部 核心观点核心观点 徐涛徐涛 。
36、分析师:陈杭登记编号:S08联系人:胡园园证券研究报告2022年5月19日方正电子行业深度报告国产半导体设备研究框架:光刻机薄膜沉积刻蚀机清洗氧化离子注入量测投资要点2n 逻辑存储功率三代半扩产,资本支出继续维持高位。
37、 证 券 研 究 报证 券 研 究 报 告告 证监会审核华创证券投资咨询业务资格批文号:证监许可20091210 号 公司研究公司研究 半导体设备半导体设备 2022 年年 08 月月 03 日日 芯源微688037深度研究报告 强推强推首。
38、基于术语图谱的临床大数据清洗和利用.CHIMA 2019目录目录CONTENTS数据清洗流程与术语图谱的作用人机协同的基于规范的包含常用术语的基于本体的术语图谱的构建大数据价值链与临床大数据挖掘流程工具与算法支撑CHIMA 2019自然语言。
39、 敬请参阅最后一页特别声明1证券研究报告 2022 年 9 月 20 日 公司研究公司研究 中国半导体清洗设备中国半导体清洗设备巨头巨头高速成长高速成长,气体等半导体服务业务空间广阔,气体等半导体服务业务空间广阔 至纯科技603690.SH。
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